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1. (WO2007015306) CHARGED PARTICLE BEAM PLOTTING DEVICE AND METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/015306    International Application No.:    PCT/JP2005/014345
Publication Date: 08.02.2007 International Filing Date: 04.08.2005
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01J 37/305 (2006.01)
Applicants: FUJITSU LIMITED [JP/JP]; 1-1, Kamikodanaka 4-chome, Nakahara-ku, Kawasaki-s hi, Kanagawa 2118588 (JP) (For All Designated States Except US).
MABUCHI, Satoru [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MABUCHI, Satoru; (JP)
Agent: KOKUBUN, Takayoshi; 5th Floor, Ikebukuro TG Homest Building, 17-8, Higashi-Ikebukuro 1-chome, Toshima-ku, Tokyo1700013 (JP)
Priority Data:
Title (EN) CHARGED PARTICLE BEAM PLOTTING DEVICE AND METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRACÉ À FAISCEAU PARTICULAIRE CHARGÉ
(JA) 荷電粒子線描画装置及び方法
Abstract: front page image
(EN)An integral control unit (46) relatively moves a transmitting image of a first aperture (21) in the first aperture and an evaluation block (1) of a block mask (22) so as to change relative positional relationship of a transmission hole (2) in the transmitting image of the first aperture and positions the transmission hole (2) at measurement points in the transmitting image so as to measure a current value of electron beams which have successively pass through the transmission hole (2) by a Faraday cup (33). According to this, electron beam current value distribution uniformity is evaluated. An electron beam plotting is actually performed by using only the region where the current value in the transmitting image of the first aperture (21) is uniform. With this configuration, it is possible to integrally plot a patter of a predetermined design value.
(FR)L’invention concerne une unité de commande intégrale (46) déplaçant de manière relative une image de transmission d’une première ouverture (21) dans la première ouverture et un bloc d’évaluation (1) d’un masque de bloc (22) de façon à modifier la relation positionnelle relative d’un trou de transmission (2) dans l’image de transmission de la première ouverture et disposant le trou de transmission (2) en des points de mesure dans l’image de transmission afin de mesurer une valeur de courant de faisceaux d’électrons étant passés successivement à travers le trou de transmission (2) par un collecteur de Faraday (33). On peut alors évaluer l’uniformité de répartition des valeurs de courant de faisceaux d’électrons. Un tracé à faisceau d’électrons est effectivement réalisé à l’aide uniquement de la région dans laquelle la valeur de courant dans l’image de transmission de la première ouverture (21) est uniforme. Avec cette configuration, il est possible de tracer intégralement un motif d’une valeur de conception prédéterminée.
(JA) 統括制御部(46)は、第1のアパーチャ(21)における第1のアパーチャの透過像とブロックマスク(22)の評価用ブロック(1)とを相対的に移動させ、第1のアパーチャの透過像内で透過孔(2)の相対的な位置関係を変化させて、当該透過像内における複数箇所の測定点に透過孔(2)を位置合わせして、ファラデーカップ(33)により順次透過孔(2)を透過した電子線の電流値を測定し、これに基づき電子線電流値の分布均一性を評価する。第1のアパーチャ(21)の透過像における電流値が均一な領域のみを用いて実際の電子線描画を行う。この構成により、所期の設計値のパターンを一括描画することができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)