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1. (WO2007014160) METHOD AND APPARATUS FOR IN-SITU SUBSTRATE SURFACE ARC DETECTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/014160    International Application No.:    PCT/US2006/028685
Publication Date: 01.02.2007 International Filing Date: 21.07.2006
IPC:
H02H 9/00 (2006.01), H02H 3/00 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, P.O. Box 58039, Santa Clara, California 95054-3299 (US) (For All Designated States Except US).
LOO, David, H. [US/US]; (US) (For US Only).
TANG, Xianmin [CN/US]; (US) (For US Only).
SANSONI, Steven, V. [US/US]; (US) (For US Only).
TSAI, Cheng-Hsiung [US/US]; (US) (For US Only).
RENGARAJAN, Suraj [IN/US]; (US) (For US Only)
Inventors: LOO, David, H.; (US).
TANG, Xianmin; (US).
SANSONI, Steven, V.; (US).
TSAI, Cheng-Hsiung; (US).
RENGARAJAN, Suraj; (US)
Agent: TABOADA, Alan; Moser IP Law Group, 1040 Broad Street, 2nd Floor, Shrewsbury, New Jersey 07702 (US)
Priority Data:
60/701,316 21.07.2005 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR IN-SITU SUBSTRATE SURFACE ARC DETECTION
(FR) PROCEDE ET APPAREIL POUR LA DETECTION D'ARC SUR LA SURFACE D'UN SUBSTRAT IN SITU
Abstract: front page image
(EN)NEW ABSTRACT Embodiments of a method and apparatus for in-situ substrate surface arc detection are provided herein. In one embodiment, an apparatus for detecting arcing on the surface on an electrostatic chuck [Fig. 1, 114], having an electrostatic chucking assembly [Fig.1, 134], disposed within a semiconductor-processing chamber [Fig. 1, 110] includes a voltage divider [Fig. 2, R2, R3] having an input configured to receive an input signal from the electrostatic chucking assembly representative of a voltage on a surface of a substrate; and a monitoring circuit [Fig. 2, 204] coupled to the voltage divider for generating an output signal indicative of whether arcing has occurred on the surface of a substrate.
(FR)Dans des modes de réalisation, l'invention concerne un procédé et un appareil pour la détection d'arc sur la surface d'un substrat in situ. Dans un mode de réalisation, un appareil de détection de formation d'arc sur la surface d'un substrat sur un mandrin électrostatique, présentant un ensemble mandrin électrostatique, disposé dans une chambre de traitement de semi-conducteurs comprend un diviseur de tension présentant une entrée conçue pour recevoir un signal d'entrée provenant de l'ensemble mandrin électrostatique représentatif d'une tension sur une surface d'un substrat ; et nu circuit de surveillance couplé au diviseur de tension afin de générer un signal de sortie indiquant si la formation d'arc s'est produite sur la surface d'un substrat.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)