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1. (WO2007013398) ELECTRON BEAM DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/013398    International Application No.:    PCT/JP2006/314571
Publication Date: 01.02.2007 International Filing Date: 24.07.2006
IPC:
H01J 37/147 (2006.01), H01J 37/153 (2006.01), H01J 37/29 (2006.01)
Applicants: EBARA CORPORATION [JP/JP]; 11-1, Haneda Asahi-cho, Ohta-ku, Tokyo 1448510 (JP) (For All Designated States Except US).
NAKASUJI, Mamoru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MURAKAMI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SATAKE, Tohru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KARIMATA, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KIMBA, Toshifumi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIYAMOTO, Matsutaro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SOBUKAWA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MORI, Satoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAKASUJI, Mamoru; (JP).
MURAKAMI, Takeshi; (JP).
SATAKE, Tohru; (JP).
KARIMATA, Tsutomu; (JP).
KIMBA, Toshifumi; (JP).
MIYAMOTO, Matsutaro; (JP).
SOBUKAWA, Hiroshi; (JP).
MORI, Satoshi; (JP)
Agent: SHAMOTO, Ichio; YUASA AND HARA, Section 206, New Ohtemachi Bldg., 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Priority Data:
2005-215234 26.07.2005 JP
2005-272181 20.09.2005 JP
2005-329825 15.11.2005 JP
Title (EN) ELECTRON BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU D’ÉLECTRONS
(JA) 電子線装置
Abstract: front page image
(EN)An electron beam emitted from an electron gun (G) forms a reduced image on a sample (S) via a non-dispersion Wien filter (5-1), electromagnetic polarizer (11-1), a beam separator (12-1), and a tablet lens (17-1) constituting an objective lens. The beam separator (12-1) is so configured that the distance which the secondary electron beam passes in the beam separator is about three times of the distance which the primary electron beam passes in the beam separator. Accordingly, even when a magnetic field in the beam separator is set so as to deflect the primary electron beam by a small angle such as about 10 degrees or less, the secondary electron beam can deflect by about 30 degrees or above. Thus, the primary and the secondary electron beam can be separated sufficiently from each other. Moreover, since the primary electron beam is deflected by a small angle, aberration generated in the primary electron beam is small. This shortens the optical path length of the electron optical system so as to reduce the affect of the spatial charge effect and reduces generation of deflection aberration.
(FR)L’invention concerne un faisceau d’électrons émis depuis un pistolet à électrons (G) constituant une image réduite sur un échantillon (S) par le biais d’un filtre de Wien sans dispersion (5-1), d’un polariseur électromagnétique (11-1), d’un séparateur de faisceau (12-1), et d’une lentille à tablette (17-1) constituant une lentille d’objectif. Le séparateur de faisceau (12-1) est configuré pour que la distance parcourue par le faisceau d’électrons secondaire à travers le séparateur de faisceau corresponde environ au triple de la distance parcourue par le faisceau d’électrons primaire dans le séparateur de faisceau. En conséquence, même si un champ magnétique dans le séparateur de faisceau est réglé pour dévier le faisceau d’électrons primaire d’un petit angle, de l’ordre de 10 degrés ou moins, le faisceau d’électrons secondaire peut être dévié d’environ 30 degrés ou plus. Ainsi, le faisceau d’électrons primaire et le faisceau d’électrons secondaire peuvent être séparés de manière suffisante l’un de l’autre. De plus, comme le faisceau d’électrons primaire est dévié d’un petit angle, l’aberration générée dans le faisceau d’électrons primaire est petite. Ce phénomène raccourcit la longueur de trajet optique du système optique d’électrons pour réduire l’effet de charge spatial et l’aberration de déviation.
(JA) 電子銃(G)から放出された電子線は、非分散のウィーンフィルタ(5-1)、電磁偏向器(11-1)、ビーム分離器(12-1)及び対物レンズを構成するタブレットレンズ(17-1)を介して試料(S)上に縮小像を形成する。ビーム分離器(12-1)は、2次電子ビームのビーム分離器内の通過距離が、1次電子ビームのビーム分離器内の通過距離の3倍程度となるよう構成されている。これにより、ビーム分離器における磁界を、1次電子ビームを約10度以下の小角度だけ偏向するように設定しても、2次電子ビームを約30度以上偏向させることができ、1次及び2次電子ビームは十分に分離される。また、1次電子ビームを小角度だけ偏向するので、1次電子ビームに生じる収差が小さい。したがって、空間電荷効果の影響を電子光学系の光路長を短くして、空間電荷の影響及び偏向収差の発生を低減することができる。                                                                                 
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)