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1. (WO2007010971) STAGE DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/010971    International Application No.:    PCT/JP2006/314356
Publication Date: 25.01.2007 International Filing Date: 20.07.2006
G05D 3/00 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01), G12B 5/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 9-11, Kitashinagawa 5-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1418686 (JP) (For All Designated States Except US).
NAKAJIMA, Ryuta [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAKAJIMA, Ryuta; (JP)
Agent: ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-Chome, Shibuya-Ku, Tokyo 1506032 (JP)
Priority Data:
2005-211724 21.07.2005 JP
(JA) ステージ装置
Abstract: front page image
(EN)A stage device (10) comprising a wafer holding member (14) on which a wafer (12) is placed, a Z-axis support base (18) liftably supporting the Z-axis member (16) of the water holding member (14), a &thetas;z support base (22) rotatably supporting the Z-axis support base (18) through a bearing (20), and an XY table (24) on which the &thetas;z support base (22) is mounted. The fixed elements (36a) of Z-axis actuators (36) are fixed onto the flat surface part (34) of the &thetas;z support base (22), and the movable elements (36b) thereof are fixed to both ends of the horizontal member (14b) of the wafer holding member (14). The pair of Z-axis actuators (36) are controlled so as to simultaneously impart driving forces to the horizontal member (14b) of the wafer holding member (14). In this case, since the reaction of the driving forces of the Z-axis actuators (36) are received by the &thetas;z support base (22) and the XY table (24), the occurrence of vibration by the reaction can be suppressed.
(FR)La présente invention concerne un dispositif à étages (10) comprenant un élément de support de plaquette (14)sur lequel une plaquette (12) est placée, une base de support de l’axe Z (18) soutenant avec faculté de levage l’élément de l’axe Z (16) de l’élément de support de plaquette (14), une base de support &thetas;z (22) soutenant avec faculté de rotation la base de support de l’axe Z (18) par l’intermédiaire d’un roulement (20) et une table XY (24) sur laquelle la base de support &thetas;z (22) est montée. Les éléments fixes (36a) des actionneurs de l’axe Z (36) sont fixés sur la partie de surface plate (34) de la base de support &thetas;z (22) et les éléments mobiles (36b) de ceux-ci sont fixés aux deux extrémités de l’élément horizontal (14b) de l’élément de support de plaquette (14). Les deux actionneurs de l’axe Z (36) sont commandés de manière à conférer simultanément des forces d’entraînement à l’élément horizontal (14b) de l’élément de support de plaquette (14). Dans ce cas, étant donné que la réaction des forces d’entraînement des actionneurs de l’axe Z (36) est reçue par la base de support &thetas;z (22) et la table XY (24), l’occurrence d’une vibration par la réaction peut être supprimée.
(JA) ステージ装置10は、ウエハ12が載置されるウエハ保持部材14と、ウエハ保持部材14のZ軸部材16を昇降可能に支持するZ軸支持ベース18と、ベアリング20を介してZ軸支持ベース18を回動可能に支持するθz支持ベース22と、θz支持ベース22が搭載されたXYテーブル24とを有する。Z軸アクチュエータ36の固定子36aがθz支持ベース22の平面部34上に固定されており、可動子36bがウエハ保持部材14の横架部材14bの両端に固定されている。一対のZ軸アクチュエータ36は、ウエハ保持部材14の横架部材14bに対して同時に駆動力を付与するように制御される。その際、Z軸アクチュエータ36の駆動力の反力は、θz支持ベース22及びXYテーブル24で受けるので、反力による振動発生が抑制される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)