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1. (WO2007010919) FLUORINE-CONTAINING COPOLYMER, ALKALI-DEVELOPABLE RESIN COMPOSITION, AND ALKALI-DEVELOPABLE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/010919    International Application No.:    PCT/JP2006/314228
Publication Date: 25.01.2007 International Filing Date: 19.07.2006
IPC:
C08F 8/14 (2006.01), C08F 299/00 (2006.01), C08F 299/02 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/032 (2006.01)
Applicants: ADEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1168554 (JP) (For All Designated States Except US).
TSUZUKI, Masahide [JP/JP]; (JP) (For US Only).
CHIBA, Ryota [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TSUZUKI, Masahide; (JP).
CHIBA, Ryota; (JP)
Agent: HATORI, Osamu; Akasaka HKN BLDG. 6F 8-6, Akasaka 1-chome Minato-ku, Tokyo 1070052 (JP)
Priority Data:
2005-209867 20.07.2005 JP
Title (EN) FLUORINE-CONTAINING COPOLYMER, ALKALI-DEVELOPABLE RESIN COMPOSITION, AND ALKALI-DEVELOPABLE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COPOLYMÈRE CONTENANT DU FLUOR, COMPOSITION DE RÉSINE DÉVELOPPABLE AVEC UN ALCALI ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DÉVELOPPABLE AVEC UN ALCALI
(JA) 含フッ素共重合体、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is an alkali-developable resin composition containing a fluorine-containing copolymer (E) which is obtained by modifying a part or all of hydroxyl groups in a block copolymer (C) with a polybasic acid anhydride (D). The block copolymer (C) is composed of a segment A which is a fluorine-containing segment obtained from one or more fluorine monomers (A) and a segment B which is a fluorine-free segment obtained from one or more fluorine-free monomers (B), and the hydroxyl groups are contained in the segment A and/or the segment B. Also disclosed is an alkali-developable photosensitive resin composition containing such an alkali-developable resin composition containing a fluorine-containing copolymer. This alkali-developable photosensitive resin composition is excellent in ink repellency, alkali developability, sensitivity, resolution, transparency, adhesion and alkali resistance, and enables to form a fine pattern precisely.
(FR)L’invention concerne une composition de résine développable avec un alcali contenant un copolymère contenant du fluor (E) lequel est obtenu en modifiant une partie ou la totalité des groupes hydroxyles présents dans un copolymère en blocs (C) avec un anhydride d'un polyacide basique (D). Le copolymère en blocs (C) est composé d'un segment A qui est un segment contenant du fluor obtenu à partir d'un ou plusieurs monomères fluorés (A) et d'un segment B qui est un segment sans fluor obtenu à partir d'un ou plusieurs monomères sans fluor (B) et les groupes hydroxyles sont contenus dans le segment A et/ou le segment B. L’invention concerne également une composition de résine photosensible développable avec un alcali contenant une telle composition de résine développable avec un alcali contenant un copolymère contenant du fluor. Cette composition de résine photosensible développable avec un alcali est excellente en termes d'imperméabilité à l'encre, de caractère développable par un alcali, de sensibilité, de résolution, de transparence, d'adhérence et de résistance aux alcalis et permet de former un motif fin avec précision.
(JA) AセグメントとBセグメントとからなるブロック共重合体(C)であって、Aセグメントが1種類以上のフッ素系モノマー(A)から得られる含フッ素セグメントであり、Bセグメントが1種類以上の非フッ素系モノマー(B)から得られる非フッ素セグメントであり、Aセグメント及び/又はBセグメントが水酸基を有する該ブロック共重合体(C)の水酸基の一部又は全部を多塩基酸無水物(D)で変性させて得られる、含フッ素共重合体(E)を含有する、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物。本発明の含フッ素共重合体を含有するアルカリ現像性樹脂組成物を用いたアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、撥インク性、アルカリ現像性、感度、解像度、透明性、密着性、耐アルカリ性に優れ、微細パターンを精度良く形成できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)