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1. (WO2007010864) BLANKS FOR GRAY TONE MASK, GRAY TONE MASK USING SAID BLANKS, AND PROCESS FOR PRODUCING SAID BLANKS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/010864    International Application No.:    PCT/JP2006/314086
Publication Date: 25.01.2007 International Filing Date: 14.07.2006
IPC:
G02F 1/1335 (2006.01)
Applicants: ULVAC COATING CORPORATION [JP/JP]; 2804, Terao, Chichibu-shi, Saitama 3680056 (JP) (For All Designated States Except US).
YAMADA, Fumihiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OZAKI, Toshiharu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HIRAMOTO, Gou [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: YAMADA, Fumihiko; (JP).
OZAKI, Toshiharu; (JP).
HIRAMOTO, Gou; (JP)
Agent: HAMANO, Takao; Bussan Building Bekkan, 1-15, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2005-207285 15.07.2005 JP
Title (EN) BLANKS FOR GRAY TONE MASK, GRAY TONE MASK USING SAID BLANKS, AND PROCESS FOR PRODUCING SAID BLANKS
(FR) ÉBAUCHES DESTINÉES À DES MASQUES À TONS DE GRIS, MASQUE À TONS DE GRIS UTILISANT LESDITES ÉBAUCHES, ET PROCÉDÉS DE PRODUCTION DESDITES ÉBAUCHES
(JA) グレートーンマスク用ブランクス、及びそれを用いたグレートーンマスク及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)This invention provides blanks for a gray tone mask, having a pattern comprising a light shielding part, an opening, and a semi-light-transparent part. A light shielding film and a semi-light-transparent film are adhered directly or indirectly on a surface of a transparent substrate. The light shielding film and the semi-light-transparent film are different from each other in the composition of the metal component in the light shielding film and the semi-light-transparent film. There is also provided a process for producing a gray tone mask, comprising etching a light shielding film and a semi-light-transparent film with a first etching liquid, which can etch the light shielding film and the semi-light-transparent film at the same etching rate, and conducting half-etching with a second etching liquid which can selectively etch only the light shielding film without etching the semi-light-transparent film.
(FR)Cette invention concerne des ébauches destinées à un masque à tons de gris, présentant un motif comprenant une partie protégeant de la lumière, une ouverture, et une partie semi-transparente à la lumière. Un film protégeant de la lumière et un film semi-transparent à la lumière adhèrent directement ou indirectement à une surface d’un substrat transparent. La composition du composant métallique contenu dans le film protégeant de la lumière et le film semi-transparent à la lumière est différente. L’invention a également trait à un procédé permettant de produire un masque à tons de gris, consistant à graver un film protégeant de la lumière et un film semi-transparent à la lumière à l’aide d’un premier liquide de gravure, qui peut graver le film protégeant de la lumière et le film semi-transparent à la lumière avec le même facteur de morsure, et à effectuer un demi gravure à l’aide d’un second liquide de gravure qui peut graver de manière sélective uniquement le film protégeant de la lumière sans graver le film semi-transparent à la lumière.
(JA) 遮光部と、開ロ部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスク用ブランクスにおいて、透明基板の表面上に直接若しくは間接に付着させて形成した遮光膜及び半透光膜を有し、遮光膜及び半透光膜の金属成分の組成が異なるように構成される。また、グレートーンマスクの製造方法は、遮光膜及び半透光膜を、同じエッチング速度を有する第一のエッチング液を用いてエッチングし、さらに、半透光膜をエッチングせず遮光膜のみを選択的にエッチングする第二のエッチング液でハーフエッチングすることから成る。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)