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1. (WO2007010851) VACUUM SYSTEM AND METHOD FOR OPERATING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/010851    International Application No.:    PCT/JP2006/314056
Publication Date: 25.01.2007 International Filing Date: 14.07.2006
IPC:
F04B 37/16 (2006.01)
Applicants: NABTESCO CORPORATION [JP/JP]; 9-18, Kaigan 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050022 (JP) (For All Designated States Except US).
ASM JAPAN K.K. [JP/JP]; 23-1, Nagayama 6-chome, Tama-shi, Tokyo 2060025 (JP) (For All Designated States Except US).
TANAKA, Hiroyuki; (For US Only).
ANDO, Kiyoshi; (For US Only)
Inventors: TANAKA, Hiroyuki; .
ANDO, Kiyoshi;
Agent: ARIGA, Gunichiro; Shinjuku Sanshin Building, 2-4-9, Yoyogi, Shibuya-ku, Tokyo 1510053 (JP)
Priority Data:
2005-211245 21.07.2005 JP
Title (EN) VACUUM SYSTEM AND METHOD FOR OPERATING SAME
(FR) SYSTÈME À VIDE ET PROCÉDÉ D'EXPLOITATION CORRESPONDANT
(JA) 真空システム及びその運転方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a vacuum system wherein the rotating speed of a vacuum pump can be suitably adjusted at the time of performing prescribed process in a vacuum chamber to contribute to energy saving. A vacuum pump controller (33) in a semiconductor manufacturing system (10) is provided with gas flow mode and auto-tuning mode. In the auto-tuning mode, the rotating speed of a vacuum pump unit (30) is determined so that an operation quantity of an APC valve (22) is at a target value within a range which is less than the full operation quantity by a prescribed quantity, in a status where the inside of a process chamber (21) is in a vacuum required in the gas flow mode. The vacuum pump controller is provided with a means for judging whether the operation quantity of the APC valve (22) reached the target value or not, by reducing the rotating speed of the vacuum pump unit (30) from a rated speed, in a status where the inside of the process chamber (21) is in the vacuum required in the gas flow mode, for operation in the auto-tuning mode; and a means for storing the rotating speed of the vacuum pump unit (30) as a rotating speed in the gas flow mode when it is judged that the operation quantity reached the target value.
(FR)La présente invention concerne un système à vide qui permet d'adapter correctement la vitesse de rotation d'une pompe à vide lors de l'exécution d'un processus déterminé dans une chambre à vide à des fins d'économie d'énergie. Une unité de contrôle de pompe à vide (33) comprise dans un système de fabrication de semi-conducteurs (10) comprend un mode de circulation de gaz et un mode de réglage automatique. En mode de réglage automatique, la vitesse de rotation d'une unité de pompe à vide (30) est déterminée de sorte qu'une valeur opératoire d'une valve APC (22) atteigne une valeur cible comprise dans une plage inférieure à la valeur opératoire totale selon une valeur prescrite, dans un état où l'intérieur d'une chambre de traitement (21) est à un niveau de vide requis en mode de circulation de gaz. L'unité de contrôle de pompe à vide comprend : un organe d'analyse qui établit si la valeur opératoire de la valve APC (22) a atteint la valeur cible en réduisant la vitesse de rotation de l'unité de pompe à vide (30) à partir d'une vitesse nominale, dans un état où l'intérieur de la chambre de traitement (21) est au niveau de vide requis en mode de circulation de gaz, pour permettre le fonctionnement en mode de réglage automatique; un organe qui mémorise la vitesse de rotation de l'unité de pompe à vide (30) en tant que vitesse de rotation en mode de circulation de gaz lorsqu'il est établi que la valeur opératoire a atteint la valeur cible.
(JA) 真空容器内で所定の処理を実行させる際に真空ポンプの回転数を適切なものにでき、省エネルギーに貢献できる真空システムを提供するため、半導体製造システム(10)の真空ポンプ制御装置(33)は、ガスフローモードと、プロセスチャンバ(21)内をガスフローモードで要求される真空圧とした状態で、APC弁(22)を全作動量よりも所定量少ない範囲とした目標値となるよう真空ポンプユニット(30)の回転数を決定させるオートチューニングモードとを備え、オートチューニングモードの際に、プロセスチャンバ(21)内をガスフローモードで要求される真空圧とした状態で真空ポンプユニット(30)の回転数を定格回転から低減させて、APC弁(22)の作動量が目標値に達したか否かを判断する手段と、達したとの判断でその際の真空ポンプユニット(30)の回転数をガスフローモードにおける回転数として記憶する手段を有する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)