Processing

Please wait...

Settings

Settings

1. WO2007010794 - PROCESS FOR PRODUCING RESIST COMPOSITION, FILTERING APPARATUS, RESIST COMPOSITION APPLICATOR, AND RESIST COMPOSITION

Note: Text based on automatic Optical Character Recognition processes. Please use the PDF version for legal matters

請求の範囲

[1] 酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する榭脂成分 (A)と、露光により酸を発生す る酸発生剤成分 (B)を有機溶剤(S)に溶解してなるレジスト組成物を、ポリエチレン 製の中空糸膜を備えたフィルタ (f 1)を通過させる工程 (I)を有するレジスト組成物の 製造方法。

[2] 前記工程 (I)の前および Zまたは後に、さらに、前記レジスト組成物を、ナイロン製 の膜を備えたフィルタおよび Zまたはフッ素榭脂製の膜を備えたフィルタを通過させ る工程を有する請求項 1に記載のレジスト組成物の製造方法。

[3] 酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する榭脂成分 (A)と、露光により酸を発生す る酸発生剤成分 (B)を有機溶剤 (S)に溶解してなるレジスト組成物用の流路上に、 ポリエチレン製の中空糸膜を備えたフィルタ (f 1)を備えたろ過部 (F1)を有するろ過 装置。

[4] 前記流路上、前記ろ過部 (F1)の上流側および Zまたは下流側に、さらに、ナイ口 ン製の膜を備えたフィルタおよび Zまたはフッ素榭脂製の膜を備えたフィルタを備え るろ過部 (F2)を有する請求項 3に記載のろ過装置。

[5] 請求項 3に記載のろ過装置を搭載したレジスト組成物の塗布装置。

[6] 請求項 1に記載のレジスト組成物の製造方法によって得られるレジスト組成物。