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1. (WO2007009543) PELLICLE FOR USE IN A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/009543    International Application No.:    PCT/EP2006/005833
Publication Date: 25.01.2007 International Filing Date: 19.06.2006
IPC:
G03F 1/14 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, D-73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
GÖHNERMEIER, Aksel [DE/DE]; (DE) (For US Only).
PAZIDIS, Alexandra [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: GÖHNERMEIER, Aksel; (DE).
PAZIDIS, Alexandra; (DE)
Agent: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner, Epplestr. 14, 70597 Stuttgart (DE)
Priority Data:
60/700,142 18.07.2005 US
Title (EN) PELLICLE FOR USE IN A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS
(FR) PELLICULE DESTINEE A ETRE UTILISEE DANS UN APPAREIL D'EXPOSITION DE PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(EN)A pellicle for use in a microlithographic exposure apparatus (10) has, for an operating wavelength of the apparatus, a maximum transmittance for light rays (56) that obliquely impinge on the pellicle (34; 134; 234) . This ensures smaller variations of the transmittance over a broad range of angles of incidence, as it occurs in very high numerical aperture projection lenses.
(FR)La présente invention a trait à une pellicule destinée à être utilisée dans un appareil d'exposition de projection microlithographique (10) présentant, pour une longueur d'onde de fonctionnement de l'appareil, un facteur de transmission maximal pour des rayons lumineux (56) qui assurent un impact oblique sur la pellicule (34; 134; 234). Cela permet des plus petites variations du facteur de transmission sur une large plage d'angles d'incidence, étant qu'il se produit dans des lentilles de projection à ouverture numérique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)