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1. (WO2007009535) ACTIVE RETICLE TOOL AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/009535    International Application No.:    PCT/EP2006/005683
Publication Date: 25.01.2007 International Filing Date: 13.06.2006
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven (NL) (For All Designated States Except US).
VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus [NL/NL]; (NL) (For US Only).
DE BOEIJ, Wilhelmus, Petrus [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VAN GREEVENBROEK, Hendrikus, Robertus, Marie [NL/NL]; (NL) (For US Only).
KLAASSEN, Michel, Fransois, Hubert [NL/NL]; (NL) (For US Only).
KOK, Haico, Victor [NL/NL]; (NL) (For US Only).
WEHRENS, Martijn, Gerard, Dominique [NL/NL]; (NL) (For US Only).
UITTERDIJK, Tammo [NL/NL]; (NL) (For US Only).
ROOIJAKKERS, Wilhelmus, Jacobus, Maria [NL/NL]; (NL) (For US Only).
KUIPER, Johannes, Maria [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VAN DOOREN, Leon [NL/NL]; (NL) (For US Only).
SONNEVELD, Jacob [NL/NL]; (NL) (For US Only).
GILING, Erwin, Johannes, Martinus [NL/NL]; (NL) (For US Only)
Inventors: VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus; (NL).
DE BOEIJ, Wilhelmus, Petrus; (NL).
VAN GREEVENBROEK, Hendrikus, Robertus, Marie; (NL).
KLAASSEN, Michel, Fransois, Hubert; (NL).
KOK, Haico, Victor; (NL).
WEHRENS, Martijn, Gerard, Dominique; (NL).
UITTERDIJK, Tammo; (NL).
ROOIJAKKERS, Wilhelmus, Jacobus, Maria; (NL).
KUIPER, Johannes, Maria; (NL).
VAN DOOREN, Leon; (NL).
SONNEVELD, Jacob; (NL).
GILING, Erwin, Johannes, Martinus; (NL)
Agent: LEEMING, John, Gerard; J. A. Kemp & Co., 14 South Square, Gray's Inn, London WC1R 5JJ (GB)
Priority Data:
60/689,800 13.06.2005 US
11/361,049 24.02.2006 US
Title (EN) ACTIVE RETICLE TOOL AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) INSTRUMENT A RETICULE ACTIF ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(EN)A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool (40) includes a rotatable retarder (R) configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens.
(FR)La présente invention concerne un appareil lithographique qui inclut un système d'éclairage configuré pour conditionner un faisceau de rayonnement; un capteur de polarisation configuré au moins en partie servant à être couplé à un étage de réticule. Les composants du capteur de polarisation à réticule peuvent être chargés et déchargés dans l'appareil lithographique de la façon utilisée pour les réticules conventionnels. Dans une configuration, un instrument à réticule actif (40) inclut une lame à retard pivotable (R) configurée pour varier le retard appliqué à une lumière polarisée reçue à partir d'un point de champ dans le système d'éclairage. Dans une autre configuration, un instrument à réticule passif est configuré en tant que matrice de modules de capteurs de polarisation, où le degré de retard appliqué à une lumière reçue par des lames à retard fixes varie selon la position du module de capteur de polarisation. Par conséquent, il est possible de mesurer une pluralité de conditions de retard pour une lumière reçue à un point de champ donné. Grâce à cela, il est possible de déterminer de manière complète un état de polarisation de la lumière au point de champ donné. Dans une autre configuration, le capteur de polarisation est configuré afin de mesurer l'effet d'une lentille de projection sur un état de polarisation d'une lumière traversant la lentille de projection.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)