Search International and National Patent Collections
Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persists, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2007008742) OPTIMIZING USE AND PERFORMANCE OF OPTICAL SYSTEMS IMPLEMENTED WITH TELECENTRIC ON-AXIS DARK FIELD ILLUMINATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2007/008742 International Application No.: PCT/US2006/026649
Publication Date: 18.01.2007 International Filing Date: 07.07.2006
IPC:
G01N 21/88 (2006.01)
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
N
INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21
Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible, or ultra-violet light
84
Systems specially adapted for particular applications
88
Investigating the presence of flaws, defects or contamination
Applicants:
ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC. [US/US]; 13900 NW Science Park Drive Portland, OR 97229-5497, US (AllExceptUS)
BALDWIN, Leo [CA/US]; US (UsOnly)
EMERY, Joseph, J. [US/US]; US (UsOnly)
Inventors:
BALDWIN, Leo; US
EMERY, Joseph, J.; US
Agent:
ANGELLO, Paul, S.; Stoel Rives, LLP 900 S.w. Fifth Avenue Suite 2600 Portland, OR 97204, US
Priority Data:
60/697,90408.07.2005US
Title (EN) OPTIMIZING USE AND PERFORMANCE OF OPTICAL SYSTEMS IMPLEMENTED WITH TELECENTRIC ON-AXIS DARK FIELD ILLUMINATION
(FR) OPTIMISATION D'UTILISATION ET DE PERFORMANCE DE SYSTEMES OPTIQUES MIS EN OEUVRE AVEC UNE ILLUMINATION A CHAMP SOMBRE SUR AXE TELECENTRIQUE
Abstract:
(EN) Systems and methods are provided for imaging a planar specular object (102) such as a semiconductor wafer. In one embodiment, an imaging system (100) for imaging a defect on a planar specular object (102) includes a telecentric lens (110) having a sufficiently aspherical surface such that the telecentric lens (110) is substantially corrected for an optical aberration. The imaging system (100) also includes a telecentric stop (116) including an aperture therein to block light reflected from the planar specular object (102) while allowing light reflected from the defect to pass through the aperture. The imaging system (100) further includes a lens group (108) having a system stop positioned between the telecentric stop (116) and the lens group (108). The lens group (108) is substantially corrected for the optical aberration independent of the telecentric lens (110).
(FR) L'invention concerne des systèmes et des procédés destinés à l'imagerie d'un objet spéculaire plan (102), tel qu'une plaquette à semi-conducteur. Dans une forme d'exécution, un système d'imagerie (100) pour l'imagerie d'un défaut sur un objet spéculaire plan (102) comprend une lentille télécentrique (110) ayant une surface suffisamment asphérique pour que la lentille télécentrique (110) soit sensiblement corrigée quant à l'aberration optique. Le système d'imagerie (100) comprend également un système d'arrêt télécentrique (116) comprenant une ouverture destinée à bloquer la lumière réfléchie par l'objet spéculaire plan (102), tout en permettant à la lumière réfléchie par le défaut de passer à travers l'ouverture. Le système d'imagerie (100) comprend en outre un groupe de lentilles (108) ayant un système d'arrêt positionné entre le système d'arrêt télécentrique (116) et le groupe de lentilles (108). Le groupe de lentilles (108) est sensiblement corrigé quant à l'aberration optique, indépendamment de la lentille télécentrique (110).
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)
Also published as:
KR1020080033230SG163534JP2009500631CN101218500CN101887032KR1020120127522