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1. (WO2007008509) METHODS FOR VERIFYING GAS FLOW RATES FROM A GAS SUPPLY SYSTEM INTO A PLASMA PROCESSING CHAMBER
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Pub. No.: WO/2007/008509 International Application No.: PCT/US2006/026095
Publication Date: 18.01.2007 International Filing Date: 05.07.2006
IPC:
G01F 25/00 (2006.01)
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
F
MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW, OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
25
Testing or calibrating of apparatus for measuring volume, volume flow, or liquid level, or for metering by volume
Applicants:
LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway Fremont, California 94538-6470, US (AllExceptUS)
LARSON, Dean, J. [US/US]; US (UsOnly)
HEFTY, Robert, C. [US/US]; US (UsOnly)
TIETZ, James, V. [US/US]; US (UsOnly)
KENNEDY, William, S. [US/US]; US (UsOnly)
LENZ, Eric, H. [US/US]; US (UsOnly)
DENTY, William, M., Jr. [US/US]; US (UsOnly)
MAGNI, Enrico [IT/US]; US (UsOnly)
Inventors:
LARSON, Dean, J.; US
HEFTY, Robert, C.; US
TIETZ, James, V.; US
KENNEDY, William, S.; US
LENZ, Eric, H.; US
DENTY, William, M., Jr.; US
MAGNI, Enrico; US
Agent:
SKIFF, Peter, K. ; Buchanan Ingersoll & Rooney PC P. O. Box 1404 Alexandria, Virginia 22313-1404, US
Priority Data:
11/178,32312.07.2005US
Title (EN) METHODS FOR VERIFYING GAS FLOW RATES FROM A GAS SUPPLY SYSTEM INTO A PLASMA PROCESSING CHAMBER
(FR) PROCEDES POUR VERIFIER DES DEBITS DE GAZ DEPUIS UN SYSTEME D'ALIMENTATION EN GAZ DANS UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abstract:
(EN) Methods of measuring gas flow rates in a gas supply system for supplying gas to a plasma processing chamber (12) are provided. In a differential flow method, a flow controller is operated at different set flow rates, and upstream orifice pressures are measured for the set flow rates at ambient conditions. The measured orifice pressures are referenced to a secondary flow verification method that generates corresponding actual gas flow rates for the different set flow rates. The upstream orifice pressures can be used as a differential comparison for subsequent orifice pressure measurements taken at any temperature condition of the chamber. In an absolute flow method, some parameters of a selected gas and orifice are predetermined, and other parameters of the gas are measured while the gas is being flowed from a flow controller at a set flow rate through an orifice.
(FR) La présente invention concerne des procédés pour mesurer des débits de gaz dans un système d'alimentation en gaz permettant de fournir du gaz à une chambre de traitement au plasma. Dans un procédé à écoulement différentiel, un contrôleur de flux est mis en oeuvre à différents débits réglés et des pressions d'orifices en amont sont mesurées pour ces débits réglés dans des conditions ambiantes. Les pressions d'orifices mesurées sont référencées pour un procédé de vérification de flux secondaire qui produit des débits de gaz courants correspondants pour les différents débits réglés. Les pressions d'orifices en amont peuvent être utilisées comme moyen de comparaison différentielle pour des mesures de pression d'orifice ultérieures, prises dans n'importe quelle condition de température de la chambre. Dans un procédé à écoulement absolu, certains paramètres d'un gaz choisi et d'un orifice sont prédéfinis et d'autres paramètres du gaz sont mesurés lorsque le gaz circule à travers un orifice, depuis un contrôleur de flux, à un débit réglé. Dans ce procédé, n'importe quel point de réglage de contrôleur de flux peut être atteint à n'importe quel moment et dans n'importe quelles conditions de chambre, par exemple lors d'opérations de traitement au plasma. Cette invention concerne également des systèmes d'alimentation en gaz.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)
Also published as:
KR1020080031406CN101583855KR1020120135928MYPI 20063268