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1. (WO2007008399) PHOTOLUMINESCENCE IMAGING WITH PREFERENTIAL DETECTION OF PHOTOLUMINESCENCE SIGNALS EMITTED FROM A SPECIFIED MATERIAL LAYER OF A WAFER OR OTHER WORKPIECE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/008399    International Application No.:    PCT/US2006/024938
Publication Date: 18.01.2007 International Filing Date: 27.06.2006
IPC:
G01N 21/88 (2006.01)
Applicants: ACCENT OPTICAL TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; Suite B-2, 1320 SE Armour Drive, Bend, OR 97702 (US) (For All Designated States Except US).
HUMMEL, Steve [US/US]; (US) (For US Only).
WALKER, Tom [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: HUMMEL, Steve; (US).
WALKER, Tom; (US)
Agent: CARREYN, Rodger, K.; Perkins Coie LLP, P.O. Box 1208, Seattle, WA 98111-1208 (US)
Priority Data:
60/696,853 06.07.2005 US
Title (EN) PHOTOLUMINESCENCE IMAGING WITH PREFERENTIAL DETECTION OF PHOTOLUMINESCENCE SIGNALS EMITTED FROM A SPECIFIED MATERIAL LAYER OF A WAFER OR OTHER WORKPIECE
(FR) IMAGERIE PAR PHOTOLUMINESCENCE UTILISANT UNE DETECTION PREFERENTIELLE DE SIGNAUX DE PHOTOLUMINESCENCE EMIS PAR UNE COUCHE DE MATIERE SPECIFIEE D'UNE TRANCHE OU D'UNE AUTRE PIECE A USINER
Abstract: front page image
(EN)A method and apparatus uses photoluminescence to identify defects in one or more specified material layers of a sample. One or more filtering elements are used to filter out predetermined wavelengths of return light emitted from a sample. The predetermined wavelengths are selected such that only return light emitted from one or more specified material layers of the sample is detected. Additionally or alternatively, the wavelength of incident light directed into the sample may be selected to penetrate the sample to a given depth, or to excite only one or more selected material layers in the sample. Accordingly, defect data characteristic of primarily only the one or more specified material layers is generated.
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif utilisant la photoluminescence pour identifier des défauts dans une ou plusieurs couche(s) de matière spécifiée(s) d'un échantillon. Un ou plusieurs élément(s) de filtrage est/sont utilisé(s) pour filtrer des longueurs d'onde prédéterminées de la lumière retournée par un échantillon. Les longueurs d'onde prédéterminées sont sélectionnées de sorte que seule la lumière émise en retour par une ou plusieurs couches de matière spécifiée(s) de l'échantillon est détectée. Dans un mode de réalisation complémentaire ou substitutif, la longueur d'onde de la lumière incidente dirigée dans l'échantillon est sélectionnée en vue de pénétrer dans l'échantillon jusqu'à une profondeur donnée, ou pour n'exciter qu'une ou plusieurs couche(s) de matière sélectionnée(s) de l'échantillon. Ce procédé permet ainsi de produire des données de défaut propres essentiellement à la ou aux couche(s) de matière spécifiée(s).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)