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1. (WO2007008019) VACUUM GATE VALVE HAVING ANTI-SUCK BACK FUNCTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/008019    International Application No.:    PCT/KR2006/002706
Publication Date: 18.01.2007 International Filing Date: 10.07.2006
IPC:
H01L 21/02 (2006.01)
Applicants: M.I CO., LTD [KR/KR]; Majung Ind. Com., 509, Majung-ri, Jiksan-eup, Cheonan-si, Chungcheongnam-do 330-813 (KR) (For All Designated States Except US).
SON, Byung-Chang [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: SON, Byung-Chang; (KR)
Agent: NAM, Sang-Sun; KAL Bldg. 3rd Fl., 41-3, Seosomun-dong, Jung-gu, 100-813 Seoul (KR)
Priority Data:
10-2005-0061642 08.07.2005 KR
10-2005-0092068 30.09.2005 KR
Title (EN) VACUUM GATE VALVE HAVING ANTI-SUCK BACK FUNCTION
(FR) ROBINET-VANNE À VIDE COMPORTANT UNE FONCTION ANTIRETOUR
Abstract: front page image
(EN)A vacuum gate valve having anti-suck back function is disclosed. A vacuum gate valve includes a base body with the first hollow. A main body is connected to one side of the base body and has the second hollow corresponding to the first hollow. An upper body is connected to other side of the main body opposite to the base body and has the third hollow corresponding to the second hollow of the main body. An opening and closing plate is elevatedly installed at the second hollow of the base body to close the third hollow of the upper body. In case of an error of the vacuum pump, the third hollow of the upper body is closed by the vertically elevated opening-closing plate due to a pressure difference of the first hollow of the base plate and the third hollow of the upper plate. In this structure, a vacuum of manufacturing equinpments, such as a semi-conductor and an high vacuum LCD manufacturing equipment and a general industrial low vacuum manufacturing equipment, can be maintained in case of the error of the vacuum pump.
(FR)La présente invention concerne un robinet-vanne à vide comportant une fonction antiretour. Ce robinet-vanne à vide comprend un corps de base avec une première dépression. Un corps principal est connecté à un côté du corps de base et comporte la seconde dépression correspondant à la première dépression. Un corps supérieur est connecté à l’autre côté du corps principal à l’opposé du corps de base et comporte la troisième dépression correspondant à la seconde dépression du corps principal. Une plaque d’ouverture et de fermeture est disposée en surélévation sur la seconde dépression du corps de base pour fermer la troisième dépression du corps supérieur. Dans le cas d’une erreur de la pompe à vide, la troisième dépression du corps supérieur est refermée par la plaque d’ouverture-fermeture élevée verticalement en raison d'une différence de pression entre la première dépression de la plaque de base et la troisième dépression de la plaque supérieure. Dans cette structure, un vide d’équipements de fabrication, comme un équipement de fabrication de semi-conducteur ou de LCD à vide poussé et un équipement de fabrication à faible vide d’industrie généraliste, peut être maintenu dans le cas d'une erreur de la pompe à vide.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: Korean (KO)