WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2007007751) SURFACE-TREATED SILICA SOL, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME AND INKJET RECORDING MEDIUM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/007751    International Application No.:    PCT/JP2006/313766
Publication Date: 18.01.2007 International Filing Date: 11.07.2006
IPC:
C01B 33/146 (2006.01), B41M 5/00 (2006.01), B41M 5/50 (2006.01), B41M 5/52 (2006.01)
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kandanishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010054 (JP) (For All Designated States Except US).
OHIWAMOTO, Masaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMAGUCHI, Kenji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OHIWAMOTO, Masaki; (JP).
YAMAGUCHI, Kenji; (JP)
Agent: HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010062 (JP)
Priority Data:
2005-202649 12.07.2005 JP
Title (EN) SURFACE-TREATED SILICA SOL, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME AND INKJET RECORDING MEDIUM
(FR) SOL DE SILICE TRAITÉ SUPERFICIELLEMENT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI ET SUPPORT D’ENREGISTREMENT À JET D’ENCRE
(JA) 表面処理シリカゾル、その製造方法及びインクジェット記録媒体
Abstract: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a surface-treated silica sol having been improved in the porosity and film forming property of dry item; a process for efficiently producing the surface-treated silica sol; and an inkjet recording medium that in printing according to inkjet system, exhibits a high ink absorption and realizes forming of high-quality images. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] The surface-treated silica sol can be obtained by modifying the surface of colloidal silica particles contained in an aqueous silica sol through a surface treatment of bonding divalent metal ions. The inkjet recording medium, namely, inkjet recording paper or sheet can be obtained by the use of the above surface-treated silica sol.
(FR)L’invention entend proposer un sol de silice traité superficiellement dont on a amélioré la porosité et la propriété filmogène d’article sec. ; un processus de fabrication efficace du sol de silice traité superficiellement ; et un support d’enregistrement à jet d’encre utilisé pour l’impression selon un système à jet d’encre, présentant un taux d’absorption d’encre élevé et permettant la formation d’images de grande qualité. L’invention concerne le sol de silice traité superficiellement que l’on peut obtenir en modifiant la surface de particules de silice colloïdales contenues dans un sol de silice aqueux grâce à un traitement superficiel d'ions métalliques divalents de liaison. Le support d’enregistrement à jet d’encre, à savoir, un papier ou une feuille d’enregistrement à jet d’encre, peut être obtenu en utilisant le sol de silice traité superficiellement ci-dessus.
(JA)【課題】乾燥物の造膜性、多孔性を改良した表面処理シリカゾル、該表面処理シリカゾルを効率よく製造する方法、及びインクジェット方式の印字において、高いインク吸収性を有し、高品位の画像形成を可能にするインクジェット記録媒体を提供すること。 【解決手段】前記表面処理シリカゾルは、水性シリカゾル中のコロイダルシリカ粒子の表面に2価金属イオンを結合させた表面処理を施し改質することにより得られる。また、前記インクジェット記録媒体すなわちインクジェット記録用紙及びシートは、本発明の表面処理シリカゾルを用いることにより得られる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)