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1. (WO2007007681) CHLOROPRENE BLOCK COPOLYMER AND SOAPLESS POLYCHLOROPRENE LATEX, AND PROCESSES FOR PRODUCTION OF COPOLYMER AND LATEX
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/007681    International Application No.:    PCT/JP2006/313598
Publication Date: 18.01.2007 International Filing Date: 07.07.2006
IPC:
C08F 293/00 (2006.01), C08F 2/38 (2006.01), C08F 289/00 (2006.01), C08L 53/00 (2006.01), C09J 153/00 (2006.01)
Applicants: TOSOH CORPORATION [JP/JP]; 4560, Kaisei-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7468501 (JP) (For All Designated States Except US).
OZOE, Shinji; (For US Only)
Inventors: OZOE, Shinji;
Agent: OGURI, Shohei; Eikoh Patent Office 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2005-200304 08.07.2005 JP
2006-126067 28.04.2006 JP
2006-139463 18.05.2006 JP
Title (EN) CHLOROPRENE BLOCK COPOLYMER AND SOAPLESS POLYCHLOROPRENE LATEX, AND PROCESSES FOR PRODUCTION OF COPOLYMER AND LATEX
(FR) COPOLYMÈRE BLOC DE CHLOROPRÈNE ET LATEX DE POLYCHLOROPRÈNE SANS SAVON, ET PROCESSUS DE FABRICATION DE COPOLYMER ET DE LATEX
(JA) クロロプレン系ブロック共重合体及びソープレスポリクロロプレン系ラテックス、並びにこれらの製造法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed are a novel polychloroprene copolymer, a soapless polychloroprene latex, and a process for producing the copolymer or latex in a simple manner, which are intended to be used for the improvement in adhesion property and water resistance of a conventional polychloroprene adhesive or the improvement in oil resistance and adhesion property of a conventional styrene-butadiene block copolymer. A chloroprene block copolymer comprising a polymer (A) having the composition represented by the general formula (1) in the description and a chloroprene polymer (B), the polymer (A) being linked to one terminal or both termini of the chloroprene polymer (B), and the total amount of the 1,2-bond and the isomerized 1,2-bond in the chloroprene polymer (B) as measured by carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrometry being 2.0 mol% or less; a soapless polychloroprene latex comprising an amphiphilic chloroprene copolymer having a hydrophobic chloroprene polymer and a hydrophilic oligomer or polymer having an acidic functional group attached to the hydrophobic chloroprene polymer and 2 wt% or less of an emulsifying agent; and a process for producing the chloroprene block copolymer or soapless polychloroprene latex.
(FR)L’invention concerne un nouveau copolymère de polychloroprène, un latex de polychloroprène sans savon, et un processus de fabrication du copolymère ou du latex de manière simple, qui sont destinés à être utilisés pour améliorer la propriété d’adhérence et la résistance à l’eau d’un adhésif de polychloroprène conventionnel ou bien pour améliorer la résistance à l’huile et la propriété d’adhérence d’un copolymère bloc de styrène-butadiène conventionnel. L'invention concerne un copolymère bloc de chloroprène comprenant un polymère (A) de la composition représentée par la formule générale (1) dans la description et un polymère de chloroprène (B), le polymère (A) étant lié à une terminaison ou aux deux terminaisons du polymère de chloroprène (B), et la quantité totale de la liaison 1,2 et de la liaison 1,2 isomérisée dans le polymère de chloroprène (B) mesurée par une spectrométrie à résonance magnétique nucléaire de carbone-13 étant inférieure ou égale à 2,0 % molaire ; un latex de polychloroprène sans savon comprenant un copolymère de chloroprène amphiphile ayant un polymère de chloroprène hydrophobe et un oligomère ou polymère hydrophile ayant un groupe fonctionnel acide fixé au polymère de chloroprène hydrophobe et 2% en poids ou moins d’un agent émulsifiant; et un processus de fabrication du copolymère bloc de chloroprène ou du latex de polychloroprène sans savon.
(JA)not available
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)