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1. (WO2007007622) ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM AND PROTECTIVE PLATE FOR PLASMA DISPLAY PANEL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/007622    International Application No.:    PCT/JP2006/313433
Publication Date: 18.01.2007 International Filing Date: 05.07.2006
IPC:
H05K 9/00 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), B32B 15/04 (2006.01), G09F 9/00 (2006.01)
Applicants: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (For All Designated States Except US).
MORIMOTO, Tamotsu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KONISHI, Masaaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAWASAKI, Masato [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OYAMA, Takuji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MORIMOTO, Tamotsu; (JP).
KONISHI, Masaaki; (JP).
KAWASAKI, Masato; (JP).
OYAMA, Takuji; (JP)
Agent: SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA kanda Square 17, Kanda-konyacho Chiyoda-ku Tokyo 101-0035 (JP)
Priority Data:
2005-198507 07.07.2005 JP
2005-311169 26.10.2005 JP
Title (EN) ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM AND PROTECTIVE PLATE FOR PLASMA DISPLAY PANEL
(FR) FILM DE BLINDAGE ÉLECTROMAGNÉTIQUE ET PLAQUE PROTECTRICE POUR ÉCRAN À PLASMA
(JA) プラズマディスプレイパネル用電磁波遮蔽フィルムおよび保護板
Abstract: front page image
(EN)This invention provides an electromagnetic wave shielding film for PDP having a low luminous reflectance without providing a protective film, and a protective plate for PDP having a low luminous reflectance using the electromagnetic wave shielding film for PDP. The electromagnetic wave shielding film (10) comprises a substrate (11) and an electrically conductive film (12). The electrically conductive film (12) comprises an inorganic material layer (12a) having a refractive index of 1.55 to 2.5 and metal layer (12b) alternately stacked from the substrate (11) side. The metal layer (12b) has a multilayered structure comprising n metal layers (12b) and (n + 1) inorganic material layers (12a), wherein n is an integer of 3 to 5. The inorganic material layer (12a) is a layer containing at least one material selected from metal oxides, metal nitrides, and metal oxynitrides. The metal layer (12b) is a layer formed of pure silver or a silver alloy. The thickness of each of the metal layers, which are 2nd to nth as counted from the substrate, is larger than the thickness of the metal layer which is first from the substrate.
(FR)Cette invention met à disposition un film de blindage électromagnétique pour écran à plasma ayant un facteur de réflexion faible sans mettre à disposition de film protecteur, et une plaque de protection pour écran à plasma ayant un facteur de réflexion faible utilisant le film de blindage électromagnétique pour écran à plasma. Le film de blindage électromagnétique (10) comprend un substrat (11) et un film électriquement conducteur (12). Le film électriquement conducteur (12) comprend une couche de matière inorganique (12a) ayant un index de réfraction de 1,55 à 2,5 et une couche métallique (12b) empilées en alternance à partir du côté du substrat (11). La couche métallique (12b) a une structure multicouche comprenant n couches métalliques (12b) et (n + 1) couches de matière inorganique (12a), n étant un nombre entier de 3 à 5. La couche de matière inorganique (12a) est une couche contenant au moins une matière sélectionnée à partir d'oxydes métalliques, nitrures métalliques et oxynitrures métalliques. La couche métallique (12b) est une couche formée d'argent pur ou d'un alliage d'argent. L'épaisseur de chacune des couches métalliques, qui vont de la 2ème à l'n-ième lorsqu'elles sont comptées à partir du substrat, est supérieure à l'épaisseur de la couche métallique qui est la première à partir du substrat.
(JA) 保護フィルムを設けなくとも、視感反射率が低いPDP用電磁波遮蔽フィルム、および該PDP用電磁波遮蔽フィルムを用いた視感反射率が低いPDP用保護板を提供する。  基体11と導電膜12とを有し、導電膜12は基体11側から屈折率が1.55~2.5の無機物層12aと金属層12bとが交互に積層され、金属層12bがn層、無機物層12aが(n+1)層(ただし、nは3~5の整数。)設けられた多層構造体であり、無機物層12aが金属酸化物、金属窒化物および金属酸窒化物から選ばれる1種以上を含有する層であり、金属層12bが純銀または銀合金からなる層であり、基体から2~n番目の各金属層の膜厚が基体から1番目の金属層の膜厚よりも厚い電磁波遮蔽フィルム10を用いる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)