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1. (WO2007007619) MATERIAL FOR PROTECTIVE FILM FORMATION, AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2007/007619 International Application No.: PCT/JP2006/313425
Publication Date: 18.01.2007 International Filing Date: 05.07.2006
IPC:
G03F 7/11 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004
Photosensitive materials
09
characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
11
having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
Applicants:
東京応化工業株式会社 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 〒2110012 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 Kanagawa 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012, JP (AllExceptUS)
石塚 啓太 ISHIDUKA, Keita [JP/JP]; JP (UsOnly)
遠藤 浩太朗 ENDO, Kotaro [JP/JP]; JP (UsOnly)
吉田 正昭 YOSHIDA, Masaaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventors:
石塚 啓太 ISHIDUKA, Keita; JP
遠藤 浩太朗 ENDO, Kotaro; JP
吉田 正昭 YOSHIDA, Masaaki; JP
Agent:
正林 真之 SHOBAYASHI, Masayuki; 〒1700013 東京都豊島区東池袋1丁目25番8号 タカセビル本館 Tokyo Takase Bldg. 25-8, Higashi-ikebukuro 1-chome Toshima-ku, Tokyo 1700013, JP
Priority Data:
2005-20315012.07.2005JP
Title (EN) MATERIAL FOR PROTECTIVE FILM FORMATION, AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME
(FR) MATÉRIAU DESTINÉ À LA FORMATION D’UN FILM PROTECTEUR ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS DE PHOTORESIST UTILISANT CELUI-CI
(JA) 保護膜形成用材料、およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法
Abstract:
(EN) This invention provides a material for protective film formation, comprising at least an alkali soluble polymer comprising at least one of constitutional units represented by general formulae (I) and (II) and an alcoholic solvent. The material for protective film formation can simultaneously prevent a deterioration in a resist film during liquid immersion exposure and a deterioration in a liquid for liquid immersion exposure used and, at the same time, can form a resist pattern with a good shape without the need to increase the number of treatment steps.
(FR) La présente invention fournit un matériau destiné à la formation d’un film protecteur, comprenant au moins un polymère soluble en milieu basique comprenant au moins un des motifs structuraux représentés par les formules générales (I) et (II) et un solvant alcoolique. Le matériau destiné à la formation d’un film protecteur peut simultanément empêcher une détérioration dans un film de résist lors de l'exposition à une immersion dans un liquide et une détérioration dans un liquide pour une exposition à une immersion dans un liquide et, en même temps, peut former un motif de résist ayant une bonne forme sans la nécessité d'augmenter le nombre d'étapes de traitement.
(JA)  下記一般式(I)と、下記一般式(II)とで表される各構成単位の少なくともいずれかを構成単位として有するアルカリ可溶性ポリマーと、アルコール系溶剤とを少なくとも含有して保護膜形成用材料を構成する。これにより、液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加なしに、形状良好なレジストパターンを形成することができる。   【化1】   【化2】 〔式中、Rf1は直鎖、分岐鎖もしくは環状の炭素原子数1~5のアルキル基を示し;Rf2は水素原子、フッ素原子、または、直鎖、分岐鎖もしくは環状の炭素原子数1~5のアルキル基を示し;これらRf1、Rf2の少なくともいずれかがフッ素置換基を有し;Rは水素原子またはメチル基を示し;nは繰り返し単位の数を示す1以上の整数である。〕
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
JP2007024959US20100124720