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1. (WO2007006491) PRODUCTION OF ORGANOSILICON COMPOUNDS COMPRISING A MASKED ISOCYANATE GROUP
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/006491    International Application No.:    PCT/EP2006/006629
Publication Date: 18.01.2007 International Filing Date: 06.07.2006
IPC:
C07F 7/18 (2006.01)
Applicants: WACKER CHEMIE AG [DE/DE]; Hanns-Seidel-Platz 4, 81737 München (DE) (For All Designated States Except US).
POPP, Alfred [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WINKLER, Rainer [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: POPP, Alfred; (DE).
WINKLER, Rainer; (DE)
Agent: GÖSSMANN, Christoph; Wacker Chemie AG, Hanns-Seidel-Platz 4, 81737 München (DE)
Priority Data:
10 2005 032 948.9 14.07.2005 DE
Title (DE) HERSTELLUNG V0N ORGANOSILICIUMVERBINDUNGEN MIT EINER MASKIERTEN ISOCYANATGRUPPE
(EN) PRODUCTION OF ORGANOSILICON COMPOUNDS COMPRISING A MASKED ISOCYANATE GROUP
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION ECONOMIQUE ET ECOLOGIQUE DE COMPOSES ORGANOSILICIUM AVEC UN GROUPE ISOCYANATE MASQUE
Abstract: front page image
(DE)Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen mit einer durch ein Blockierungsmittel maskierten Isocyanatgruppe der allgemeinen Formel (I), (RO)3-n (R1)nSi-CH2-N (H)-C(O)-X (I), dadurch gekennzeichnet, dass ein Aminoalkylsilan der allgemeinen Formel (II), (RO)3-n(R1)nSi-CH2-NH2 (II) mit einer Verbindung der allgemeinen Formel (III), Cl-CO-X (III) umgesetzt wird.
(EN)The invention relates to a method for producing organosilicon compounds comprising an isocyanate group of general formula (I) (RO)3-n(R1)nSi-CH2-N(H)-C(O)-X (I) masked by a blocking agent, characterized by reacting an aminoalkylsilane of general formula (II) (RO)3-n(R1)nSi-CH2-NH2 (II) with a compound of general formula (III) Cl-CO-X (III).
(FR)L'invention concerne un procédé pour produire des composés organosilicium avec un groupe isocyanate masqué par un agent de blocage de formule (I) (RO)3-n(R1)nSi-CH2-N(H)-C(O)-X (I). L'invention est caractérisée en ce qu'un aminoalkylsilane de formule (II) (RO)3-n (R1)nSi-CH2-NH2 (II) est mis à réagir avec un composé de formule (III) Cl-CO-X (III), R étant un groupe hydrocarbure C1-C15 substitué ou non, de préférence un groupe hydrocarbure C1-C8 et mieux encore un groupe hydrocarbure C1-C3, un groupe acétyle, un groupe siloxane, un groupe silicone oligomère, un groupe silicone polymère, un groupe résine silicone, un groupe SiO2 colloïdal ou de particules silicones, R1 représentant un atome hydrogène ou un groupe hydrocarbure C1-C20 saturé ou non et éventuellement substitué avec -CN, -NCO, -NR2R3, -COOH, -COOR2, -halogène, -acryle, -époxy, -SH, -OH ou -CONR2R3, de préférence un groupe hydrocarbure C1-C8 saturé et mieux encore un groupe hydrocarbure C1-C3, saturé dans lequel une ou plusieurs unités méthylène non voisines peuvent être remplacées par des groupes -O-, -CO-, -COO-, -OCO- ou -OCOO-, -S- ou -NR2- et dans lesquels une ou plusieurs unités méthine non voisines peuvent être remplacées par des groupes -N=,-N=N- ou -P=. Les groupes R1, pour des valeurs n > 1, peuvent être identiques ou différents, n peut avoir les valeurs 0, 1, 2 et X signifie un groupe sélectionné parmi les groupes -NR2R3, -S-R1, -O-R4, -C(H)(CO2R1)2 et -O-N=CR2R3, R2 et R3 peuvent être identiques ou différents et avoir la même signification que R1 ou bien représenter ensemble un groupe hydrocarbure cyclique, saturé ou non et éventuellement ramifié, avec 2-30 atomes de carbone, ce groupe hydrocarbure pouvant éventuellement être fonctionnalisé par un ou plusieurs groupes -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -S-, =N-, -NR1-, -CONR1-. R4 désigne un groupe aryle doté d'atomes de carbone C6-C20, ce groupe aryle pouvant éventuellement être fonctionnalisé par -OH, NR2R3-, CO2R1, -OCOR1, NO2 ou -SH, ou par d'autres groupes contenant oxygène, azote, soufre ou phosphore, ou bien par des groupes hydrocarbures.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)