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1. (WO2007005414) ALTERNATIVE FUELS FOR EUV LIGHT SOURCE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2007/005414 International Application No.: PCT/US2006/024959
Publication Date: 11.01.2007 International Filing Date: 27.06.2006
IPC:
G01J 3/10 (2006.01) ,H05G 2/00 (2006.01)
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
J
MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED, VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
3
Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
02
Details
10
Arrangements of light sources specially adapted for spectrometry or colorimetry
H ELECTRICITY
05
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
G
X-RAY TECHNIQUE
2
Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
Applicants:
CYMER, INC. [US/US]; 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127-2413, US (AllExceptUS)
BOWERING, Norbert, R. [DE/US]; US (UsOnly)
KHODYKIN, Oleh [UA/US]; US (UsOnly)
BYKANOV, Alexander, N. [RU/US]; US (UsOnly)
FOMENKOV, Igor, V. [US/US]; US (UsOnly)
Inventors:
BOWERING, Norbert, R.; US
KHODYKIN, Oleh; US
BYKANOV, Alexander, N.; US
FOMENKOV, Igor, V.; US
Agent:
HILLMAN, Matthew, K.; CYMER, INC. LEGAL DEPT., MS/4-2C 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127-2413, US
Priority Data:
11/174,44229.06.2005US
11/406,21617.04.2006US
Title (EN) ALTERNATIVE FUELS FOR EUV LIGHT SOURCE
(FR) CARBURANTS ALTERNATIFS POUR UNE SOURCE LUMINEUSE UV EXTREME
Abstract:
(EN) An EUV light source is disclosed which may comprise at least one optical element having a surface, such as a multi-layer collector mirror; a laser source generating a laser beam; and a source material irradiated by the laser beam to form a plasma and emit EUV light. In one aspect, the source material may consist essentially of a tin compound and may generate tin debris by plasma formation which deposits on the optical element and, in addition, the tin compound may include an element that is effective in etching deposited tin from the optical element surface. Tin compounds may include SnBr4, SnBr2 and SnH4. In another aspect, an EUV light source may comprise a molten source material irradiated by a laser beam to form a plasma and emit EUV light, the source material comprising tin and at least one other metal, for example tin with Gallium and / or Indium.
(FR) L'invention concerne une source lumineuse d'ultraviolet extrême. Cette source peut comprendre au moins un élément optique présentant une surface telle qu'un miroir collecteur multicouche; une source laser générant un faisceau laser; et une matière de source irradiée par le faisceau laser pour former un plasma et pour émettre une lumière ultraviolette extrême. Dans un aspect de l'invention, la matière de source peut être constituée essentiellement d'un composé d'étain et peut générer des débris d'étain par une formation de plasma qui se dépose sur l'élément optique et, en outre, le composé d'étain peut comprendre un élément qui est efficace pour attaquer l'étain déposé à partir de la surface de l'élément optique. Des composés d'étain peuvent comprendre SnBr4, SnBr2 et SnH4. Dan un autre aspect de l'invention, une source lumineuse ultraviolette extrême peut comprendre une matière de source fondue irradiée par un faisceau laser pour former un plasma et pour émettre une lumière ultraviolette extrême. La matière de source comprend de l'étain et au moins un autre métal, par exemple de l'étain et du gallium et/ou de l'indium.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)
Also published as:
KR1020080021789EP1915596JP2009500795