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1. (WO2007004556) METHOD FOR MANUFACTURING SOLID ELECTROLYTIC CAPACITOR DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/004556    International Application No.:    PCT/JP2006/313090
Publication Date: 11.01.2007 International Filing Date: 30.06.2006
IPC:
H01G 9/00 (2006.01), H01G 9/012 (2006.01), H01G 9/028 (2006.01), H01G 9/052 (2006.01)
Applicants: SHOWA DENKO K. K. [JP/JP]; 13-9, Shiba Daimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518 (JP) (For All Designated States Except US).
NAITO, Kazumi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YABE, Shoji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAITO, Kazumi; (JP).
YABE, Shoji; (JP)
Agent: OHIE, Kunihisa; OHIE Patent Office, Selva-Ningyocho 6F, 14-6, Nihonbashi-Ningyocho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP)
Priority Data:
2005-191229 30.06.2005 JP
Title (EN) METHOD FOR MANUFACTURING SOLID ELECTROLYTIC CAPACITOR DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UN DISPOSITIF POUR CONDENSATEURS À ÉLECTROLYTE SOLIDE
(JA) 固体電解コンデンサ素子の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor device wherein a semiconductor layer is formed on a conductor surface having a dielectric oxidized coating film by electrolytic polymerization and then an electrode layer is sequentially formed thereon. This method is characterized in that during the electrolytic polymerization, wherein a current is conducted by using the conductor provided with a dielectric layer as a positive electrode and a cathode plate placed in the electrolytic solution as a negative electrode, a reverse voltage is temporarily applied for a certain time. Also disclosed are a solid electrolytic capacitor device manufactured by such a method, a solid electrolytic capacitor obtained by using such a solid electrolytic capacitor device, and use of such a solid electrolytic capacitor. The method enables to form a good semiconductor layer in a short time, thereby manufacturing a solid electrolytic capacitor device which enables to obtain a solid electrolytic capacitor having good ESR.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d’un dispositif pour condensateurs à électrolyte solide, une couche semi-conductrice étant déposée sur une surface conductrice comportant une pellicule de revêtement oxydé diélectrique par polymérisation électrolytique puis une couche d’électrode étant déposée séquentiellement sur cette couche semi-conductrice. Le procédé est caractérisé en ce que pendant la polymérisation électrolytique, un courant traversant le conducteur comportant une couche diélectrique servant d'électrode positive et une plaque de cathode placée dans la solution électrolytique servant d'électrode négative, une tension inversée est temporairement appliquée pendant un certain temps. La présente invention concerne également un dispositif pour condensateurs à électrolyte solide produit par un tel procédé, un condensateur à électrolyte solide fabriqué au moyen d’un tel dispositif pour condensateurs à électrolyte solide, et l’utilisation d’un tel condensateur à électrolyte solide. Ce procédé permet la formation d’une bonne couche semi-conductrice en peu de temps, et par conséquent la production d’un dispositif pour condensateurs à électrolyte solide permettant l’obtention d'un condensateur à électrolyte solide présentant une bonne ESR.
(JA) 本発明は、誘電体酸化皮膜を有する導電体表面に電解重合により半導体層を形成しその上に電極層を順次積層する固体電解コンデンサ素子の製造方法において、誘電体層を形成した導電体を正極とし、電解液中に配置された陰極板を負極として通電する電解重合時に、一時的に逆電圧を印加する期間を設けて通電する固体電解コンデンサ素子の製造方法、その方法で作製された固体電解コンデンサ素子、その固体電解コンデンサ素子から得られる固体電解コンデンサ及びその用途に関する。本発明によれば、良質の半導体層を短時間に形成して、ESRの良好な固体電解コンデンサを作製できる固体電解コンデンサ素子が製造できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)