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1. (WO2007004431) METHOD OF FORMING HIGH-RESOLUTION PATTERN AND APPARATUS THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/004431    International Application No.:    PCT/JP2006/312483
Publication Date: 11.01.2007 International Filing Date: 22.06.2006
IPC:
G03F 7/30 (2006.01), C23F 1/08 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H05K 3/06 (2006.01)
Applicants: ELFO-TEC CO., LTD. [JP/JP]; 3-62, Otai, Moriyama-ku, Nagoya-shi, Aichi 4630044 (JP) (For All Designated States Except US).
KANDA, Shinji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KANDA, Shinji; (JP)
Agent: NAKAMURA, Morio; Kobikikan Ginza Bldg. 8-9, Ginza 2-chome Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
Priority Data:
2005-194609 04.07.2005 JP
2005-247036 29.08.2005 JP
2005-254271 02.09.2005 JP
Title (EN) METHOD OF FORMING HIGH-RESOLUTION PATTERN AND APPARATUS THEREFOR
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D’UN MOTIF À HAUTE RÉSOLUTION ET DISPOSITIF ASSOCIÉ
(JA) 高精細パターンの形成方法及び装置
Abstract: front page image
(EN)Soluble parts of a work surface of substrate or base material that can be dissolved in a dissolving liquid are dissolved by a dissolving liquid consisting of a developer or etchant so as to carry out development or etching, thereby accomplishing formation of a high-resolution pattern by such an engraving. There is provided a method of forming a high-resolution pattern, involving development or etching, wherein in the step of forming a pattern on a work surface of substrate or base material that can be dissolved in a dissolving liquid, a dissolving liquid highly pressurized in advance and a high-pressure air are introduced in a nozzle and, from the nozzle, a mixed fluid of the high-pressure air and dissolving liquid is sprayed to thereby dissolve the soluble parts.
(FR)Dans la présente invention, les éléments solubles d'une surface de travail d'un substrat ou d'un matériau de base qui peuvent être dissous dans un liquide dissolvant sont dissous par un liquide dissolvant consistant en un révélateur ou un agent de gravure de façon à effectuer le développement ou l’écaillage, accomplissant ainsi la formation d’un motif à haute résolution par une telle gravure. La présente invention concerne un procédé de formation d'un motif à haute résolution impliquant le développement ou l'écaillage, selon lequel dans l'étape de formation d'un motif sur une surface de travail d’un substrat ou d’un matériau de base qui peut être dissous dans un liquide dissolvant, un liquide dissolvant hautement pressurisé à l’avance et de l'air à haute pression sont introduits dans un embout et, depuis l'embout, un fluide mélangé de l'air à haute pression et du liquide dissolvant sont pulvérisés pour dissoudre ainsi les éléments solubles.
(JA)溶解液に溶解可能な基材又は基板から成る加工表面で可溶解部を現像又はエッチング液で成る溶解液で溶解して現像又はエッチングを行い,これら食刻による高精細パターンを形成する。現像又はエッチングを含む高精細パターンの形成方法は,溶解液に溶解可能な基材又は基板から成る加工表面にパターンを形成する工程において,あらかじめ高圧にした溶解液及び高圧エアーをノズル内に導入し,前記ノズルより,前記高圧エアーと溶解液の混合流体を吹き付けて前記可溶解部を溶解する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)