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1. (WO2007002748) LPP EUV DRIVE LASER INPUT SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/002748    International Application No.:    PCT/US2006/025171
Publication Date: 04.01.2007 International Filing Date: 27.06.2006
IPC:
G21G 4/02 (2006.01), G21G 4/04 (2006.01), G01J 3/10 (2006.01)
Applicants: CYMER, INC. [US/US]; 17075 Thornmint Court, San Diego, CA 92127-2413 (US) (For All Designated States Except US).
SIMMONS, Rodney, D. [GB/US]; (US) (For US Only).
VIATELLA, John [US/US]; (US) (For US Only).
HOFFMAN, Jerzy, R. [US/US]; (US) (For US Only).
WEBB, R., Kyle [US/US]; (US) (For US Only).
BYKANOV, Alexander, N. [RU/US]; (US) (For US Only).
KHODYKIN, Oleh [UA/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SIMMONS, Rodney, D.; (US).
VIATELLA, John; (US).
HOFFMAN, Jerzy, R.; (US).
WEBB, R., Kyle; (US).
BYKANOV, Alexander, N.; (US).
KHODYKIN, Oleh; (US)
Agent: CRAY, William, C.; Cymer, Inc., Legal Dept., MS/4-2C, 17075 Thornmint Court, San Diego, CA 92127-2413 (US)
Priority Data:
11/168,785 28.06.2005 US
Title (EN) LPP EUV DRIVE LASER INPUT SYSTEM
(FR) SYSTEME D'ENTREE LASER PILOTE EUV LPP
Abstract: front page image
(EN)A laser produced plasma ('LPP') extreme ultraviolet ('EUV') light source and method of operating same is disclosed which may comprise an EUV plasma production chamber (12) having a chamber wall (14); a drive laser entrance window (16) in the chamber wall; a drive laser entrance enclosure (20) intermediate the entrance window (16) and a plasma initiation site (not shown) within the chamber and comprising an entrance enclosure distal end opening; at least one aperture plate intermediate the distal opening (120) and the entrance window comprising at least one drive laser passage aperture (92). The at least one aperture plate may comprise at least two aperture plates comprising a first aperture plate and a second aperture plate defining an aperture plate interim space (not shown). The at least one drive laser aperture passage (80) may comprise at least two drive laser aperture passages (82, 84).
(FR)L'invention concerne une source de lumière dans l'ultraviolet extrême ('EUV') par plasma produit par laser ('LPP'), ainsi qu'un procédé pour faire fonctionner celle-ci. Cette source de lumière peut comprendre une chambre de production de plasma EUV présentant une paroi; une fenêtre d'entrée de laser pilote ménagée dans la paroi de la chambre; une enceinte d'entrée de laser pilote située entre la fenêtre d'entrée et un site d'initiation de plasma à l'intérieur de la chambre, cette enceinte comprenant une ouverture d'extrémité distale; au moins une plaque perforée située entre l'ouverture distale et la fenêtre d'entrée, cette plaque comprenant au moins une ouverture de passage du laser pilote. La plaque perforée peut comprendre au moins deux plaques perforées comprenant une première plaque perforée et une seconde plaque perforée entre lesquelles est défini un espace intermédiaire. L'ouverture de passage du laser pilote peut comprendre au moins deux ouvertures de passage de laser pilote. Cette ouverture de passage du laser peut définir une ouverture présentant une largeur suffisante pour que le faisceau laser pilote puisse passer sans atténuation tout en étant suffisamment petite pour réduire sensiblement le passage de débris à travers l'ouverture de passage du laser en direction de la fenêtre d'entrée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)