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1. (WO2007002386) EUV LIGHT SOURCE COLLECTOR LIFETIME IMPROVEMENTS
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Pub. No.: WO/2007/002386 International Application No.: PCT/US2006/024463
Publication Date: 04.01.2007 International Filing Date: 23.06.2006
IPC:
G01J 3/10 (2006.01)
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
J
MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED, VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
3
Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
02
Details
10
Arrangements of light sources specially adapted for spectrometry or colorimetry
Applicants:
CYMER, INC. [US/US]; (A NEVADA CORPORATION) 17075 Thommint Court San Diego, CA 92127-2413, US (AllExceptUS)
PARTLO, William, N. [US/US]; US (UsOnly)
ERSHOV, Alexander, I. [US/US]; US (UsOnly)
FOMENKOV, Igor, V. [US/US]; US (UsOnly)
KHODYKIN, Oleh [UA/US]; US (UsOnly)
Inventors:
PARTLO, William, N.; US
ERSHOV, Alexander, I.; US
FOMENKOV, Igor, V.; US
KHODYKIN, Oleh; US
Agent:
CRAY, William, C.; CYMER, INC. Legal Dept., MS/4-2C 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127-2413, US
Priority Data:
11/168,19027.06.2005US
Title (EN) EUV LIGHT SOURCE COLLECTOR LIFETIME IMPROVEMENTS
(FR) AMELIORATIONS DE LA DUREE DE VIE D'UNITE DE COLLECTE DE SOURCE LUMINEUSE UVE
Abstract:
(EN) An apparatus and method for cleaning a plasma source material compound from a plasma produced EUV light source collector optic which may comprise reacting the plasma source material compound with hydrogen to form a hydride of the plasma source material from the plasma source material contained in the plasma source material compound on the collector optic. The method may further comprise initiating the reacting by introducing hydrogen into a plasma formation chamber containing the collector optic, and may further comprise removing the hydride from the collector optic, e.g., by cleaning plasma action and/or plasma source material sputtering, or other means as may be determined to be effective. An apparatus and method of extending the useful life of a plasma produced EUV light source collector coating layer may comprise in situ replacement of the material of the coating layer by deposition of the coating layer material onto the coating layer.
(FR) L'invention concerne un appareil et un procédé permettant de nettoyer un composé de source de plasma provenant d'une optique de collecte de source lumineuse UV extrême (UVE) produite par un plasma. Le procédé de l'invention peut consister à faire réagir le composé de source de plasma avec de l'hydrogène afin que soit formé un hydrure du composé de source de plasma à partir du composé de source de plasma contenu dans l'optique de collecte. Le procédé peut également consister à initier la réaction par introduction d'hydrogène dans une chambre de formation de plasma contenant l'optique de collecte, et à éliminer l'hydrure de l'optique de collecte, par exemple, par nettoyage plasma et/ou par pulvérisation d'une matière source de plasma, ou par un autre moyen efficace. L'invention concerne un appareil et un procédé permettant de prolonger la durée de vie d'une couche de revêtement de collecte de source lumineuse UVE produite par un plasma. Le procédé de l'invention peut consister à remplacer in situ le matériau de la couche de revêtement par dépôt de ce dernier sur ladite couche de revêtement.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)
Also published as:
EP1899697JP2008544575