WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2007001802) DUAL-WAVELENGTH POSITIVE-WORKING RADIATION-SENSITIVE ELEMENTS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/001802    International Application No.:    PCT/US2006/022575
Publication Date: 04.01.2007 International Filing Date: 08.06.2006
IPC:
C08K 5/00 (2006.01), C08K 5/23 (2006.01), B41C 1/10 (2006.01), G03F 7/022 (2006.01)
Applicants: KODAK GRAPHIC COMMUNICATIONS CANADA COMPANY [CA/CA]; 3700 Gilmore Way, Burnaby, British Columbia V5G 4M1 (CA) (For All Designated States Except US).
GOODIN, Jonathan William [GB/US]; (US) (For US Only)
Inventors: GOODIN, Jonathan William; (US)
Agent: EASTMAN KODAK COMPANY; 343 State Street, Rochester, NY 14650-2201 (US)
Priority Data:
11/157,204 20.06.2005 US
Title (EN) DUAL-WAVELENGTH POSITIVE-WORKING RADIATION-SENSITIVE ELEMENTS
(FR) ÉLÉMENTS POSITIFS RADIOSENSIBLES À DOUBLE LONGUEUR D’ONDE
Abstract: front page image
(EN)A positive-working radiation-sensitive composition comprises a polymer capable of being eluted in an alkaline aqueous solution and a development-enhancing compound. The positive-working photosensitive composition has good sensitivity for use with a ultra-violet radiation or infrared laser radiation source. The composition is stable in its state before exposure and has an excellent handling property. The sensitivity of a radiation-sensitive coating based on the composition is increased without compromising the handling characteristics. Positive-working radiation-sensitive elements based on the composition have good development latitude. They are developable using an alkaline aqueous solution, and may be used with a radiation source in lithographic applications, such as conventional imaging systems, computer-to-plate systems or other direct imaging applications.
(FR)L’invention concerne une composition positive radiosensible, comprenant un polymère pouvant être élué dans une solution alcaline aqueuse et un composant améliorant le développement. La composition positive photosensible possède une bonne sensibilité pour être utilisée avec des rayons ultraviolets ou une source de radiation de laser à infrarouge. La composition est stable dans son état avant exposition et possède une excellente propriété de traitement. La sensibilité d’un revêtement radiosensible reposant sur la composition est renforcée, sans compromettre les caractéristiques de traitement. Les éléments positifs radiosensibles reposant sur la composition présentent une bonne latitude de développement. Ils peuvent être développés à l’aide d’une solution alcaline aqueuse et peuvent être utilisés avec une source de radiation dans des applications lithographiques, telles que des systèmes d’imagerie conventionnels, des systèmes d’écriture directe des plaques ou d’autres applications directes d’imagerie.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)