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1. (WO2007001653) RETICLE ALIGNMENT TECHNIQUE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/001653    International Application No.:    PCT/US2006/018380
Publication Date: 04.01.2007 International Filing Date: 10.05.2006
IPC:
H01L 23/544 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01), G01B 11/00 (2006.01)
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, California 94438-6470 (US) (For All Designated States Except US).
SADJADI, S.M., Reza [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SADJADI, S.M., Reza; (US)
Agent: LEE, Michael, B.K.; BEYER WEAVER & THOMAS, LLP, P.o. Box 70250, Oakland, California 94612-0250 (US)
Priority Data:
11/158,680 21.06.2005 US
Title (EN) RETICLE ALIGNMENT TECHNIQUE
(FR) TECHNIQUE D'ALIGNEMENT DE RETICULE
Abstract: front page image
(EN)A method for aligning a reticle is provided (304, 324). A first patterned layer with a first alignment grid is formed (308). Sidewall layers are formed over the first patterned layer to perform a first shrink (312). The first alignment grid after shrink is etched into an etch layer to form an etched first alignment grid (316). The patterned layer is removed (320).
(FR)L'invention concerne un procédé pour aligner un réticule. Ce procédé consiste : à former une première couche à motif comportant une première grille d'alignement ; à former des couches de paroi latérale sur ladite première couche à motif pour engendrer un premier rétrécissement ; à attaquer la première grille d'alignement, après le processus de rétrécissement, pour former une couche d'attaque et ainsi produire une première grille d'alignement attaquée ; à retirer la couche à motif ; à mesurer un motif optique d'une deuxième grille d'alignement qui est alignée avec la première grille d'alignement attaquée ; à utiliser le motif optique pour déterminer si la deuxième grille d'alignement est alignée avec la première grille d'alignement attaquée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)