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1. (WO2007001485) FUMED SILICA TO COLLOIDAL SILICA CONVERSION PROCESS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/001485    International Application No.:    PCT/US2006/001589
Publication Date: 04.01.2007 International Filing Date: 17.01.2006
Chapter 2 Demand Filed:    13.04.2007    
IPC:
B44C 1/22 (2006.01), B24D 3/02 (2006.01)
Applicants: PLANAR SOLUTIONS, LLC [US/US]; 3301 Sutton Road, Adrian, Michigan 49221 (US) (For All Designated States Except US).
MAHULIKAR, Deepak [US/US]; (US) (For US Only).
WANG, Yuhu [CN/US]; (US) (For US Only)
Inventors: MAHULIKAR, Deepak; (US).
WANG, Yuhu; (US)
Agent: GREELEY, Paul, D.; Ohlandt Greeley Ruggiero & Perle, L.L.P., One Landmark Square, 10th Floor, Stamford, Connecticut 06901-2682 (US)
Priority Data:
11/152,873 15.06.2005 US
Title (EN) FUMED SILICA TO COLLOIDAL SILICA CONVERSION PROCESS
(FR) PROCEDE DE CONVERSION DE SILICE SUBLIMEE EN SILICE COLLOIDALE
Abstract: front page image
(EN)A method of manufacturing a colloidal silica dispersion, by dissolving a fumed silica in an aqueous solvent having an alkali metal hydroxide to produce an alkaline silicate solution; removing the alkali metal via ion exchange to produce a silicic acid solution; adjusting the temperature, concentration and pH of the silicic acid solution to values sufficient to initiate nucleation and particle growth at elevated temperatures; and cooling the silicic acid solution at a rate sufficient to produce the colloidal silica dispersion. The colloidal silica particles in the colloidal silica dispersion have a mean particle size about 2 nm to about 100 nm. Also provided is a method of chemical mechanical polishing a surface of a substrate by contacting the substrate and a composition having a plurality of colloidal silica particles according to the present invention and a medium for suspending the particles. The contacting is carried out at a temperature and for a period of time sufficient to planarize the substrate.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une dispersion de silice colloïdale, par dissolution d'une silice sublimée dans un solvant aqueux présentant un hydroxyde de métal alcalin afin de produire une solution de silice alcalin ; élimination du métal alcalin par échange d'ions afin de produire une solution d'acide silicique ; ajustement de la température, de la concentration et du pH de la solution d'acide silicique à des valeurs suffisantes pour initier une nucléation et une croissance de particules à températures élevées ; et refroidissement de la solution d'acide silicique à une vitesse suffisante pour produire la dispersion de silice colloïdale. Les particules de silice colloïdale dans la dispersion de silice colloïdale présentent une dimension moyenne des particules comprise entre environ 2 nm et environ 100 nm. L'invention concerne également un procédé de polissage chimico-mécanique d'une surface d'un substrat par mise en contact du substrat et d'une composition présentant une pluralité de particules de silice colloïdale selon la présente invention et un support de suspension des particules. La mise en contact est effectuée à une température et pendant une durée suffisantes pour planariser le substrat.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)