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1. (WO2007001313) A METHOD AND APPARATUS FOR PROCESS CONTROL IN TIME DIVISION MULTIPLEXED (TDM) ETCH PROCESSES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/001313    International Application No.:    PCT/US2005/023950
Publication Date: 04.01.2007 International Filing Date: 30.06.2005
Chapter 2 Demand Filed:    08.11.2006    
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01), G05D 16/20 (2006.01)
Applicants: UNAXIS USA INC. [US/US]; 10050 16th Street North, St. Petersburg, FL 33718 (US) (For All Designated States Except US)
Inventors: WESTERMAN, Russell; (US).
TEIXEIRA, Mike; (US).
JOHNSON, David; (US).
LAI, Shouliang; (US)
Agent: KAUGET, Harvey, S.; Holland & Knight LLP, 100 N. Tampa Street, Suite 4100, Tampa, FL 33602-3644 (US)
Priority Data:
11/155,904 20.06.2005 US
Title (EN) A METHOD AND APPARATUS FOR PROCESS CONTROL IN TIME DIVISION MULTIPLEXED (TDM) ETCH PROCESSES
(FR) METHODE ET APPAREIL POUR LE CONTROLE DE PROCEDE DANS DES PROCEDES DE GRAVURE PAR MULTIPLEXAGE TEMPOREL
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides a method for controlling pressure in a chamber during a time division multiplexed process. A throttle valve is positioned based on an open-loop pressure control algorithm within at least one step of the time division multiplexed etch process. A pressure response of the step is evaluated and compared to a desired pressure response. The throttle valve is then positioned through a proportional, integral and derivative controller step to step of the time division multiplexed etch process based on the evaluation to the desired pressure response.
(FR)La présente invention a trait à une méthode pour le contrôle de pression dans une enceinte lors d'un procédé de multiplexage temporel. Une vanne d'étranglement est positionnée en fonction d'un algorithme de contrôle de pression en boucle ouverte dans au moins une étape de procédé de gravure par multiplexage temporel. Une réaction de pression de l'étape est évaluée et comparée à une réaction de pression souhaitée. La vanne d'étranglement est ensuite positionnée via un contrôleur proportionnel intégral et dérivé échelonné du procédé de gravure par multiplexage temporel en fonction de l'évaluation à la réaction de pression souhaitée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)