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1. (WO2007001294) METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING NUCLEATION IN SELF-ASSEMBLED FILMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/001294    International Application No.:    PCT/US2005/022659
Publication Date: 04.01.2007 International Filing Date: 28.06.2005
IPC:
B05D 3/02 (2006.01)
Applicants: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US/US]; 5th Floor, 1111 Franklin Street, Oakland, CA 94607 (US) (For All Designated States Except US).
XIE, Ya-Hong [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: XIE, Ya-Hong; (US)
Agent: DAVIDSON, Michael; Cohen Sakaguchi & English LLP, 2040 Main Street, 9th Floor, Irvine, CA 92614 (US)
Priority Data:
11/168,266 27.06.2005 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING NUCLEATION IN SELF-ASSEMBLED FILMS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE CONTROLE DE NUCLEATION DANS LES FILMS AUTO-ASSEMBLES
Abstract: front page image
(EN)A method of forming a self-assembled film with periodic nanometer dimension features (e.g., holes) on a substrate includes the steps of providing film precursors on the substrate, wherein the film precursors are maintained in an amorphous state. Where the film precursors are block copolymers, a heating member is provided. The substrate and the heating member are then moved relative to one another so as to raise the temperature of a portion of the film precursor on the substrate above its glass transition temperature. Relative movement between the substrate and heating member continues until a self-assembled crystalline film is formed over the surface of the substrate. In an alternative embodiment, a pH dispensing member is provided to dispense a pH adjusting agent onto the substrate that promotes self-assembly of a crystalline film.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation d un film auto-assemblé avec des caractéristiques de dimension nanométrique périodique (par exemple des trous) sur un substrat englobant les phases de formation de précurseurs de film sur le substrat, les précurseurs de film étant maintenus dans un état amorphe. Lorsque les précurseurs de film sont des copolymères blocs, on prévoit un élément de chauffage. Le substrat et l'élément de chauffage sont déplacés alors l'un par rapport à l'autre pour élever la température d'une partie du précurseur de film sur le substrat au-dessus de sa température de transition vitreuse. Le mouvement relatif entre le substrat et l'élément de chauffage continue jusqu'à la formation d un film cristallin auto-assemblé à la surface du substrat. Dans un autre mode de réalisation, un élément distributeur de pH est prévu pour appliquer un agent de réglage de pH favorisant l'auto-assemblage d'un film cristallin sur le substrat.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)