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1. (WO2007001093) METHOD FOR PRODUCING HIGHLY PURE SILICON
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2007/001093 International Application No.: PCT/JP2006/313363
Publication Date: 04.01.2007 International Filing Date: 28.06.2006
IPC:
C01B 33/033 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
01
INORGANIC CHEMISTRY
B
NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF
33
Silicon; Compounds thereof
02
Silicon
021
Preparation
027
by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
033
by reduction of silicon halides or halosilanes with a metal or a metallic alloy as the only reducing agents
Applicants:
住友化学株式会社 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 〒1048260 東京都中央区新川二丁目27番1号 Tokyo 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP (AllExceptUS)
三枝 邦夫 SAEGUSA, Kunio [JP/JP]; JP (UsOnly)
山林 稔治 YAMABAYASHI, Toshiharu [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventors:
三枝 邦夫 SAEGUSA, Kunio; JP
山林 稔治 YAMABAYASHI, Toshiharu; JP
Agent:
榎本 雅之 ENOMOTO, Masayuki; 〒5418550 大阪府大阪市中央区北浜四丁目5番33号 住友化学知的財産センター株式会社内 Osaka c/o Sumitomo Chemical Intellectual Property Service, Limited 5-33, Kitahama 4-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 541-8550, JP
Priority Data:
2005-18945429.06.2005JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING HIGHLY PURE SILICON
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SILICIUM DE GRANDE PURETÉ
(JA) 高純度シリコンの製造方法
Abstract:
(EN) Disclosed is a method for producing a highly pure silicon wherein a silicon is produced by reducing a halogenated silicon represented by the formula (1) below with aluminum. In this method, the aluminum used as a reducing agent has a purity of not less than 99.9% by weight. SiHnX4-n (1) (In the formula, n represents an integer of 0-3, and X represents one or more of halogen atoms selected from F, Cl, Br and I. In this connection, the purity of aluminum is the balance obtained by deducting the total weight% of iron, copper, gallium, titanium, nickel, sodium, magnesium and zinc contained in the aluminum from 100 weight%.)
(FR) La présente invention concerne un procédé de production de silicium de grande pureté selon lequel un silicium est produit en réduisant un silicium halogéné représenté par la formule (1) ci-dessous avec de l'aluminium. Dans ce procédé, l'aluminium utilisé en tant qu’agent réducteur a une pureté non inférieure à 99,9 % en poids. SiHnX4-n (1) (Dans la formule, n représente un nombre entier de 0 à 3, et X représente un ou plusieurs atomes d'halogène choisis parmi F, Cl, Br et I. À cet égard, la pureté de l'aluminium est le complément obtenu en déduisant le pourcentage total en poids du fer, du cuivre, du gallium, du titane, du nickel, du sodium, du magnésium et du zinc contenus dans l'aluminium de 100 % en poids.)
(JA) 高純度シリコンの製造方法が提供される。高純度シリコンの製造方法は下式(1)で表されるハロゲン化珪素をアルミニウムで還元してシリコンを製造する方法であって、還元剤として使用するアルミニウムの純度が99.9重量%以上である。 SiHn4-n:      (1)(式中、nは、0~3の整数であり、Xは、F、Cl、Br、Iから選ばれた1種または2種以上のハロゲン原子である。ここでアルミニウムの純度は、100重量%から、アルミニウムに含まれる鉄と銅とガリウムとチタンとニッケルとナトリウムとマグネシウムと亜鉛の合計の重量%を差し引いたものである。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
NO20080519JP2007039318US20090130015CN101208267DE112006001649