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1. (WO2007001041) VARIABLE FLOW RANGE TYPE FLOW CONTROL DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/001041    International Application No.:    PCT/JP2006/312952
Publication Date: 04.01.2007 International Filing Date: 22.06.2006
IPC:
G05D 7/00 (2006.01), G01F 1/00 (2006.01), G01F 1/42 (2006.01), G01F 7/00 (2006.01)
Applicants: FUJIKIN INCORPORATED [JP/JP]; 3-2, Itachibori 2-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500012 (JP) (For All Designated States Except US).
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9800812 (JP) (For All Designated States Except US).
TOKYO ELECTRON LTD. [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (For All Designated States Except US).
OHMI, Tadahiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAITO, Masahito [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HINO, Shoichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHIMAZU, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIURA, Kazuyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NISHINO, Kouji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAGASE, Masaaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SUGITA, Katsuyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HIRATA, Kaoru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
DOHI, Ryousuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HIROSE, Takashi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHINOHARA, Tsutomu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IKEDA, Nobukazu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IMAI, Tomokazu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YOSHIDA, Toshihide [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TANAKA, Hisashi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OHMI, Tadahiro; (JP).
SAITO, Masahito; (JP).
HINO, Shoichi; (JP).
SHIMAZU, Tsuyoshi; (JP).
MIURA, Kazuyuki; (JP).
NISHINO, Kouji; (JP).
NAGASE, Masaaki; (JP).
SUGITA, Katsuyuki; (JP).
HIRATA, Kaoru; (JP).
DOHI, Ryousuke; (JP).
HIROSE, Takashi; (JP).
SHINOHARA, Tsutomu; (JP).
IKEDA, Nobukazu; (JP).
IMAI, Tomokazu; (JP).
YOSHIDA, Toshihide; (JP).
TANAKA, Hisashi; (JP)
Agent: SUGIMOTO, Takeo; Kitahama-Katano Bldg. 1-21, Kitahama 2-chome, Chuo-ku Osaka-shi, Osaka 5410041 (JP)
Priority Data:
2005-185845 27.06.2005 JP
Title (EN) VARIABLE FLOW RANGE TYPE FLOW CONTROL DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE COMMANDE DE DÉBIT DE TYPE À GAMME DE DÉBITS VARIABLE
(JA) 流量レンジ可変型流量制御装置
Abstract: front page image
(EN)A pressure type flow control device enabling a reduction in size and an installation cost by accurately controlling the flow of a fluid in a wide flow range. Specifically, the flow of the fluid flowing in an orifice (8) is calculated as Qc = KP1 (K is a proportionality factor) or Qc = KP2m(P1 - P2)n (K is a proportionality factor and m and n are constants) by using a pressure P1 on the upstream side of the orifice and a pressure P2 on the downstream side of the orifice. A fluid passage between the downstream side of the control valve of the flow control device and a fluid feed pipe is formed of at least two or more fluid passages positioned parallel with each other. Orifices with different fluid flow characteristics are interposed in the fluid passages positioned parallel with each other. For the control of the fluid in a small flow area, the fluid in the small flow area is allowed to flow to one orifice. For the control of the flow in the large flow area, the fluid in the large flow area is allowed to flow to the other orifice by switching the fluid passages.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de commande de débit de type à pression permettant une réduction des dimensions et du coût d’installation en contrôlant de manière précise le débit d’un fluide dans une vaste gamme de débits. De manière spécifique, le débit du fluide s’écoulant dans un orifice (8) est calculé comme Qc = KP1 (K est un facteur de proportionnalité) ou Qc = KP2m(P1 - P2)n (K est un facteur de proportionnalité et m et n sont des constantes) en utilisant une pression P1 sur le côté en amont de l’orifice et une pression P2 sur le côté en aval de l’orifice. Un passage de fluide entre le côté en aval de la valve de commande du dispositif de commande de débit et un tuyau d’alimentation en fluide est constitué d’au moins deux autres passages de fluide positionnés en parallèle l'un par rapport à l'autre. Des orifices avec des caractéristiques de débit de fluide différentes sont intercalés dans les passages de fluide positionnés en parallèle l’un par rapport à l’autre. Pour la commande du fluide dans une zone de débit restreint, on permet au fluide dans cette même zone de s’écouler vers un orifice. Pour la commande du fluide dans une zone de débit élevé, on permet au fluide dans cette même zone de s’écouler vers l’autre orifice en intervertissant les passages de fluide.
(JA) 1基の流量制御装置によって、より広い流量域の流体の高精度な流量制御を可能とすることにより、流量制御装置の小型化と設備費の削減を図るようにしたものである。 具体的には、オリフィス上流側圧力P1及び又はオリフィス下流側圧力P2を用いて、オリフィス8を流通する流体の流量をQc=KP1(Kは比例定数)又はQc=KP2 m(P1−P2n(Kは比例定数、mとnは定数)として演算するようにした圧力式流量制御装置において、当該圧力式流量制御装置のコントロール弁の下流側と流体供給用管路との間の流体通路少なくとも二つ以上の並列状の流体通路とすると共に、前記各並列状の流体通路へ流体流量特性の異なるオリフィスを夫々介在させ、小流量域の流体の流量制御には一方のオリフィスへ前記小流量域の流体を流通させ、また大流量域の流体の流量制御には他方のオリフィスへ前記大流量域の流体を切換え流通させる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)