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1. (WO2007001023) SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD AND EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2007/001023 International Application No.: PCT/JP2006/312892
Publication Date: 04.01.2007 International Filing Date: 28.06.2006
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
9
Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
Applicants:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 〒1068620 東京都港区西麻布2丁目26番30号 Tokyo 2-26-30, Nishiazabu, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP (AllExceptUS)
尾崎 多可雄 OZAKI, Takao [JP/JP]; JP (UsOnly)
江尻 鉄平 EJIRI, Teppei [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventors:
尾崎 多可雄 OZAKI, Takao; JP
江尻 鉄平 EJIRI, Teppei; JP
Agent:
柳田 征史 YANAGIDA, Masashi; 〒2220033 神奈川県横浜市港北区新横浜3-18-3 新横浜KSビル 7階 柳田国際特許事務所 Kanagawa YANAGIDA & ASSOCIATES 7F, Shin-Yokohama KS Bldg. 3-18-3, Shin-Yokohama Kohoku-ku, Yokohama-shi Kanagawa 222-0033, JP
Priority Data:
2005-18963329.06.2005JP
Title (EN) SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD AND EXPOSURE APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT ET APPAREIL D'EXPOSITION
(JA) 基板製造方法および露光装置
Abstract:
(EN) An exposure position is accurately controlled in exposure treatment for forming a structural member on a substrate. The substrate is arranged on a stage (22) of an exposure apparatus (31), photographing is performed by arranging a low magnification camera (27) above a corner of the substrate, based on a temporary coordinate system defined on the stage (22), and a mark arranged for alignment is identified. Then, based on the position where the mark is identified, an actual coordinate system is defined to match the actual arrangement status of the substrate, based on the position where the mark is identified. Coordinates of a prescribed reference point in the actual coordinate system are calculated, photographing is performed by arranging the high magnification camera (28) at a position indicated by the coordinates, and a pattern of the structural member formed on the substrate in the previous step is identified. The actual position of the reference point is specified from the identified pattern, and in accordance with the shape of an area specified by the actual reference point, an image to be recorded by exposure in the area is corrected and then exposure recording of the image is performed.
(FR) Selon la présente invention, une position d'exposition est contrôlée de manière précise dans un traitement d'exposition pour former un élément structurel sur un substrat. Le substrat est disposé sur un étage (22) d'un appareil d'exposition (31), une photographie est réalisée en disposant un appareil photo à faible agrandissement (27) au-dessus d'un coin du substrat, sur la base d'un système de coordonnées temporaires défini sur l'étage (22) et une marque disposée pour l'alignement est identifiée. Ensuite, sur la base de la position où la marque est identifiée, un système de coordonnées réelles est défini pour correspondre à la disposition réelle du substrat, sur la base de la position où la marque est identifiée. Les coordonnées d'un point de référence prescrit dans le système de coordonnées réelles sont calculées, la photographie est réalisée en disposant l'appareil photo à fort agrandissement (28) au niveau d'une position indiquée par les coordonnées et un modèle de l'élément structurel formé sur le substrat à l'étape précédente est identifié. La position réelle du point de référence est spécifiée à partir du modèle identifié et, conformément à la forme d'une surface spécifiée par le point de référence réelle, une image devant être enregistrée par l'exposition dans la surface est corrigée, puis l'enregistrement d'exposition de l'image est réalisé.
(JA)  基板上に構造部材を形成するときの露光処理で、露光位置を正確に制御する。  露光装置31のステージ22の上に基板を設置し、ステージ22上に定義された仮座標系に基づいて低倍率カメラ27を基板の角の上方に配置して撮影を行ない、位置決め目的で設けられたマークを識別する。続いてマークが識別された位置に基づいて基板の実際の配置状態に沿った本座標系を定義する。次に、所定の基準点の本座標系における座標を算出し、その座標が示す位置に高倍率カメラ28を配置して撮影を行ない、前の工程で基板上に形成された構造部材のパターンを識別する。識別されたパターンから、基準点の実際の位置を特定し、その実際の基準点により特定される領域の形状に合わせて、その領域に露光記録する画像を補正してから、画像の露光記録を行なう。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
KR1020080025187JP2007010851CN101213492