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1. (WO2007000984) EXPOSURE METHOD, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2007/000984    International Application No.:    PCT/JP2006/312763
Publication Date: 04.01.2007 International Filing Date: 27.06.2006
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
UEHARA, Yusaku [JP/JP]; (JP) (For US Only).
UCHIKAWA, Kiyoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ISHIYAMA, Satoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: UEHARA, Yusaku; (JP).
UCHIKAWA, Kiyoshi; (JP).
ISHIYAMA, Satoshi; (JP)
Agent: TATEISHI, Atsuji; Tateishi & Co. Karakida Center Bldg. 1-53-9, Karakida Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Priority Data:
2005-188837 28.06.2005 JP
Title (EN) EXPOSURE METHOD, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION, DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
Abstract: front page image
(EN)By adjusting optical characteristics of an optical system (PLL) by irradiation of a movable optical element (90) with a non-exposure light by an irradiation device (91) and adjusting optical characteristics of the optical system (PLL) by moving the optical element (90) by the optical characteristic adjustment device, it is possible to correct, for example, fluctuation of the optical characteristics of the optical system attributed to the temperature distribution of the optical element around the position eccentric from the optical axis. Moreover, under the dipole illumination condition, in order to facilitate correction by the optical characteristic adjustment device, the optical characteristic of the optical system attributed to temperature distribution of non-rotational symmetry of the optical element in the vicinity of pupils (PP1, PP2, PP3), the irradiation device (91A) irradiates a non-exposure light tot he optical element (111) so that the optical element (111) has a temperature distribution of rotational symmetry. Thus, it is possible to effectively correct the fluctuation of the optical characteristics of the optical system attributed to the illumination light absorption.
(FR)Dans la présente invention, l'ajustement des caractéristiques optiques d'un système optique (PLL) est réalisé par l'irradiation d'un élément optique mobile (90) avec une lumière de non-exposition provenant d'un dispositif d'irradiation (91), ainsi que par le déplacement de l'élément optique (90) au moyen d'un dispositif d'ajustement de caractéristiques optiques. Ceci permet par exemple de corriger la fluctuation des caractéristiques optiques du système optique due à la répartition de température dans l'élément optique autour d'une position excentrique par rapport à l'axe optique. Dans des conditions d'éclairage dipolaire, la présente invention vise en outre à faciliter la correction, par le dispositif d'ajustement de caractéristiques optiques, de la caractéristique optique du système optique liée à une répartition de température sans symétrie de révolution dans l'élément optique à proximité des pupilles (PP1, PP2, PP3). À cette fin, le dispositif d'irradiation (91A) envoie une lumière de non-exposition sur l'élément optique (111) de sorte que l'élément optique (111) ait une répartition de température à symétrie de révolution. Par conséquent, il est possible de corriger efficacement la fluctuation des caractéristiques optiques du système optique due à l'absorption de la lumière d'éclairage.
(JA) 照射装置(91)による可動の光学素子(90)に対する非露光光の照射による光学系(PLL)の光学特性の調整と、光学特性調整装置による光学素子(90)を動かすことによる光学系(PLL)の光学特性を調整との組み合わせにより、例えば光軸から偏心した位置を中心とする光学素子の温度分布に起因する光学系の光学特性の変動を補正する。また、ダイポール照明条件下などでは、瞳(PP1,PP2,PP3)近傍の光学素子の非回転対称な温度分布に起因する光学系の光学特性を、光学特性調整装置により補正が容易な光学特性にするため、照射装置(91A)により光学素子(111)に対して非露光光を照射することでその光学素子(111)を回転対称な温度分布にする。これにより、照明光吸収に起因する光学系の光学特性の変動を効果的に補正することができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)