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1. (WO2006126454) POLYBENZOXAZOLE SUBSTRATE MATERIAL AND FILM THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/126454    International Application No.:    PCT/JP2006/310012
Publication Date: 30.11.2006 International Filing Date: 19.05.2006
Chapter 2 Demand Filed:    26.10.2006    
IPC:
C08G 73/22 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01)
Applicants: NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 11-2, Fujimi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1028172 (JP) (For All Designated States Except US).
HASEGAWA, Masatoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KUNIKATA, Kenji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HASEGAWA, Masatoshi; (JP).
KUNIKATA, Kenji; (JP)
Agent: KAWAGUCHI, Yoshio; Kawaguti & Partners, Yuhsen Shinjuku Gyoen Bldg., 1-11, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 160-0022 (JP)
Priority Data:
2005-152443 25.05.2005 JP
Title (EN) POLYBENZOXAZOLE SUBSTRATE MATERIAL AND FILM THEREOF
(FR) MATERIAU DE SUBSTRAT DE TYPE POLYBENZOXAZOLE ET SON FILM
(JA) ポリベンゾオキサゾール系基板材料およびそのフィルム
Abstract: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a polybenzoxazole substrate material, and a film thereof, simultaneously exhibiting a high glass transition temperature, high transparency, low birefringence, low absorptivity and satisfactory toughness. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] There is provided a substrate material of polybenzoxazole of ≤ 80 ppm/K linear thermal expansion coefficient (load: 0.5 g/μm film thickness, rate of temperature rise: 5°C/min) and ≥ 0.4 dL/g intrinsic viscosity, composed of repeating units consisting mainly of a monomer unit of the formula: (1) wherein R is a bivalent alicyclic group.
(FR)Le problème à résoudre dans le cadre de la présente invention est de fournir un matériau de substrat de type polybenzoxazole, et son film, présentant simultanément une température de transition vitreuse élevée, une forte transparence, une faible biréfringence, une faible absorptivité et une dureté satisfaisante. La solution proposée consiste à fournir un matériau de substrat de type polybenzoxazole de coefficient de dilatation thermique linéaire inférieur ou égal à de 80 ppm/K (charge : 0,5 g/µm d’épaisseur de film, vitesse d'augmentation de la température : 5 °C/min) et une viscosité intrinsèque supérieure ou égale à 0,4 dL/g, composé de motifs répétitifs constitués principalement d’un motif monomère répondant à la formule : (1) où R représente un groupe alicyclique divalent.
(JA)【課題】高ガラス転移温度、高透明性、低複屈折、低吸水率、かつ十分な靭性を併せ持つポリベンゾオキサゾール系基板材料およびそのフィルムを提供すること。 【解決手段】式(1) (式中、Rは2価の脂環族基である)で表されるモノマー単位を反復単位の主成分とし、線熱膨張係数(荷重0.5g/膜厚1μm、昇温速度5°C/分)が80ppm/K以下であり、固有粘度が0.4dL/g以上であるポリベンゾオキサゾールからなる基板材料。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)