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1. (WO2006123700) PHOTORESIST COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/123700    International Application No.:    PCT/JP2006/309832
Publication Date: 23.11.2006 International Filing Date: 17.05.2006
IPC:
C07C 43/15 (2006.01), C07C 43/162 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: KYOWA HAKKO CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 2-15, Nihonbashi Muromachi 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030022 (JP) (For All Designated States Except US).
MATSUOKA, Hiroshi; (For US Only)
Inventors: MATSUOKA, Hiroshi;
Agent: IWAHASHI, Kazuyuki; KYOWA HAKKO KOGYO CO., LTD. Intellectual Property Department 6-1, Ohtemachi 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008185 (JP)
Priority Data:
2005-143375 17.05.2005 JP
Title (EN) PHOTORESIST COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE
(JA) フォトレジスト組成物
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a photoresist composition characterized by containing a polymer (A) containing a carboxyl group or a hydroxyl group, a polyfunctional alkenyl ether (B) represented by the general formula (I) below, and a photoacid generator (C). (In the formula, R1 and R2 may be the same as or different from each other and respectively represent a substituted or unsubstituted alkyl, a substituted or unsubstituted aryl, or a substituted or unsubstituted aralkyl, or alternatively R1 and R2 may form a substituted or unsubstituted alicyclic hydrocarbon ring together with an adjacent carbon atom; X represents a substituted or unsubstituted alkane from which n hydrogen atoms are removed; and n represents an integer of not less than 2.)
(FR)L’invention concerne une composition de résine photosensible, caractérisée en ce qu’elle contient un polymère (A), contenant un groupe carboxyle ou un groupe hydroxyle, un éther alkényle polyfonctionnel (B) représenté par la formule générale (I) ci-dessous, et un générateur photoacide (C). (I) (Dans la formule, R1 et R2 peuvent être identiques ou différents l’un de l’autre, et représentent respectivement un groupe alkyle substitué ou non substitué, un groupe aryle substitué ou non substitué, ou un groupe aralkyle substitué ou non substitué, ou, R1 et R2 , liés à un atome de carbone adjacent, peuvent former un cycle hydrocarboné alicyclique substitué ou non substitué; X représente un alcane substitué ou non substitué auquel on a retiré n atomes d'hydrogène ; et n représente un entier d'au moins 2.)
(JA) 本発明は、(A)カルボキシル基またはヒドロキシル基を含有する重合体、(B)下記一般式(I)[式中、RおよびRは、同一または異なって置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のアラルキルを表すか、RとRが隣接する炭素原子と一緒になって置換もしくは非置換の脂環式炭化水素環を形成し、Xは、置換もしくは非置換の、n個の水素原子が除去されたアルカン等を表し、nは、2以上の整数を表す]で表される多官能アルケニルエーテル、および(C)光酸発生剤を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物等を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)