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1. (WO2006123562) PROCESS FOR PRODUCING COMPOSITION FOR POLISHING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/123562    International Application No.:    PCT/JP2006/309414
Publication Date: 23.11.2006 International Filing Date: 10.05.2006
IPC:
C09K 3/14 (2006.01), B24B 37/00 (2006.01), C01G 25/02 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kandanishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010054 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKAKUMA, Noriyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OTA, Isao [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TANIMOTO, Kenji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TAKAKUMA, Noriyuki; (JP).
OTA, Isao; (JP).
TANIMOTO, Kenji; (JP)
Agent: HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office Shin-Ochanomizu Urban Trinity 2, Kandasurugadai 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Priority Data:
2005-147825 20.05.2005 JP
Title (EN) PROCESS FOR PRODUCING COMPOSITION FOR POLISHING
(FR) PROCÉDÉ SERVANT À PRODUIRE UNE COMPOSITION DE POLISSAGE
(JA) 研磨用組成物の製造方法
Abstract: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a method for producing a composition for polishing that can realize a high polishing speed and has no significant surface defect in the polished surface. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A process for producing a composition for polishing, comprising a zirconium oxide sol, the process comprising the steps of firing a zirconium compound having a d50 value, wherein d50 represents a particle diameter meaning that the number of particles having this particle diameter or less is 50% of the total number of particles, of 5 to 25 μm in terms of zirconium compound particles in the measurement of a zirconium compound slurry by laser diffractometry, and a d99 value, wherein d99 represents a particle diameter meaning that the number of particles having this particle diameter or less is 99% of the total number of particles, of not more than 60 μm in terms of zirconium compound particles, in a temperature range of 400 to 1000ºC, and subjecting the zirconium oxide powder to wet pulverization in an aqueous medium until the d50 value of the zirconium oxide particles and the d99 value of the zirconium oxide particles in the measurement of the zirconium oxide slurry by laser diffractometry are brought to 80 to 150 nm and 150 to 500 nm, respectively.
(FR)L'invention a pour objet un procédé servant à produire une composition de polissage laquelle peut permettre de réaliser une vitesse de polissage élevée et ne crée pas de défaut de surface important sur la surface polie. L'invention concerne un procédé servant à produire une composition de polissage comprenant un sol d'oxyde de zirconium, le procédé comprenant les étapes consistant à chauffer un composé du zirconium ayant une valeur de d50, d50 représentant un diamètre de particule indiquant que le nombre de particules ayant un diamètre inférieur ou égal à ce diamètre de particule est égal à 50 % du nombre total des particules, de 5 à 25 µm en termes de particules du composé de zirconium lors de la mesure d'une boue liquide du composé de zirconium par diffractométrie laser et une valeur de d99, d99 représentant un diamètre de particule indiquant que le nombre de particules ayant un diamètre inférieur ou égal à ce diamètre de particule est égal à 99 % du nombre total des particules, qui n'est pas supérieure à 60 µm en termes de particules du composé de zirconium, dans une plage de températures de 400 à 1000°C et à soumettre la poudre d'oxyde de zirconium à une pulvérisation en voie humide dans un milieu aqueux jusqu'à ce que la valeur de d50 des particules d'oxyde de zirconium et la valeur de d99 des particules d'oxyde de zirconium lors de la mesure de la boue liquide de l'oxyde de zirconium par diffractométrie laser soient amenées à 80 à 150 nm et 150 à 500 nm, respectivement.
(JA)【課題】研磨速度が高く、研磨面の表面欠陥の少ない研磨用組成物を得る方法を提供する。 【解決手段】酸化ジルコニウムゾルを含む研磨用組成物の製造方法であって、  ジルコニウム化合物のスラリーをレーザー回折法で測定したときのジルコニウム化合物粒子のd50(ただし、d50は、この粒子径以下の粒子数が全粒子数の50%であることを意味する粒子径を表わす。)が5~25μmであり、かつジルコニウム化合物粒子のd99(ただし、d99は、この粒子径以下の粒子数が全粒子数の99%であることを意味する粒子径を表わす。)が60μm以下である該ジルコニウム化合物を、400~1000°Cの温度範囲で焼成する工程と、  得られた酸化ジルコニウム粉末を水性媒体中で、該酸化ジルコニウムスラリーをレーザー回折法で測定したときの酸化ジルコニウム粒子のd50が80~150nm、及び酸化ジルコニウム粒子のd99が150~500nmになるまで湿式粉砕する工程とからなる方法である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)