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1. (WO2006121297) METHOD FOR FORMING HIGH-RESOLUTION PATTERN AND SUBSTRATE HAVING PREPATTERN FORMED THEREBY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/121297    International Application No.:    PCT/KR2006/001768
Publication Date: 16.11.2006 International Filing Date: 12.05.2006
IPC:
H01L 21/32 (2006.01)
Applicants: LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 20, Yoido-dong, Youngdungpo-gu, Seoul 150-721 (KR)
Inventors: SHIN, Dong-Youn; (KR).
KIM, Tae-Su; (KR)
Agent: HAM, Hyun-Kyung; 14F., Kukdong Building, 60-1 Chungmuro3-ka, Chung-ku, Seoul 100-705 (KR)
Priority Data:
10-2005-0039774 12.05.2005 KR
10-2006-0004609 16.01.2006 KR
Title (EN) METHOD FOR FORMING HIGH-RESOLUTION PATTERN AND SUBSTRATE HAVING PREPATTERN FORMED THEREBY
(FR) METHODE DE FORMATION DE MOTIF HAUTE RESOLUTION ET SUBSTRAT PRESENTANT UN PREMOTIF FORME SUR CELUI-CI
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method for forming a pattern, which comprises the steps of: (a) providing a substrate having a sacrificial layer made of a first material, partially or totally formed on the substrate; (b) forming pattern grooves, which are free from the first material and have a line width of a first resolution or lower, on the sacrificial layer by using a first means; (c) filling the pattern grooves with a second material by using a second means; and (d) removing the first material present in a remaining sacrificial layer by way of irradiation or heating, wherein the first material has a threshold fluence of less than a threshold fluence of the second material, the first material is removed in step (d) under a dose ranging from the threshold fluence of the first material to that of the second material, and the pattern is formed on the substrate by the second material. A substrate having a pre-pattern formed by the method is also disclosed. The method for forming a pattern provides a high-resolution pattern with little or no waste of the second material, thereby reducing production costs. The method includes use of the first means with a high resolution, such as focused energy beams of laser, combined with the second means with a low resolution, such as ink-jet, and provides a high-resolution pattern with high processing efficiency.
(FR)L'invention concerne une méthode pour former un motif. Cette méthode comprend les étapes consistant à: (a) fournir un substrat présentant une couche sacrificielle constituée d'une première matière, partiellement ou totalement formée sur le substrat; (b) former des rainures de motif exemptes de la première matière et présentant une largeur de ligne inférieure ou égale à une première résolution, sur la couche sacrificielle, à l'aide d'un premier moyen; (c) remplir les rainures de motif d'une seconde matière à l'aide d'un second moyen; et (d) supprimer la première matière présente dans une couche sacrificielle restante à l'aide de rayonnements ou de chauffage, la première matière présentant une fluence seuil inférieure à la fluence seuil de la seconde matière, la première matière étant supprimée à l'étape (d) à une dose comprise entre la fluence de seuil de la première matière et celle de la seconde matière, et le motif étant formé sur le substrat par la seconde matière. Un substrat présentant un prémotif formé par la méthode susmentionnée est également décrit. La méthode de formation d'un motif permet d'obtenir un motif de haute résolution présentant peu ou pas de déchet de la seconde matière, ce qui permet de réduire les coûts de production. La méthode de l'invention fait appel à l'utilisation du premier moyen à une haute résolution, de sorte que des faisceaux d'énergie focalisés d'un laser, combiné au second moyen présentant une faible résolution, notamment un jet d'encre, pour obtenir un motif de haute résolution avec une haute efficacité de traitement.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)