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Pub. No.:    WO/2006/121068    International Application No.:    PCT/JP2006/309387
Publication Date: 16.11.2006 International Filing Date: 10.05.2006
C23C 16/505 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Applicants: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500 Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (For All Designated States Except US).
HIRONO, Takayoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TADA, Isao [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKATSUKA, Atsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KIKUCHI, Masashi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OGATA, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAWAMURA, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAITO, Kazuya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SATO, Masatoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIRONO, Takayoshi; (JP).
TADA, Isao; (JP).
NAKATSUKA, Atsushi; (JP).
KIKUCHI, Masashi; (JP).
OGATA, Hideyuki; (JP).
KAWAMURA, Hiroaki; (JP).
SAITO, Kazuya; (JP).
SATO, Masatoshi; (JP)
Agent: IISAKA, Yasuo; Utoku-building, 6-85, Benten-dori, Naka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2310007 (JP)
Priority Data:
2005-137671 10.05.2005 JP
(JA) 巻取式プラズマCVD装置
Abstract: front page image
(EN)A winding plasma CVD apparatus in which the film quality can be made homogeneous by supplying a reaction gas uniformly to a film deposition region and self-cleaning of a film deposition portion can be carried out during film deposition. A film (22) is supported between a pair of movable rollers (33, 34) arranged on the upstream side and downstream side of the film deposition portion (25) with regard to the moving direction of the film, and then the film (22) is moved substantially linearly at the film deposition position. Consequently, the distance between a shower plate (37) and the film (22) is kept constant, and the film quality is made homogeneous. The film (22) is heated by means of a metal belt (40) moving simultaneously on the back of the film. The movable rollers (33, 34) can ascend from the film deposition position to the self-cleaning position, and the film (22) can be separated from the shower plate (37). Self-cleaning can be carried out during film deposition by closing the opening of a mask (51) with a shutter (65) and thereby preventing leakage of cleaning gas.
(FR)L’invention concerne un appareil CVD plasma à enroulement dans lequel la qualité de film peut être rendue homogène en injectant de manière uniforme un gaz de réaction dans une région de déposition de film et l’autonettoyage d’une portion de déposition de film peut se dérouler pendant la déposition d'un film. Un film (22) est supporté entre une paire de galets mobiles (33, 34) disposés sur le côté amont et le côté aval de la portion de déposition de film (25) par rapport au sens de déplacement du film, et ensuite le film (22) est déplacé de manière sensiblement linéaire vers la position de déposition de film. En conséquence, la distance entre une plaque de rayonnement (37) et le film (22) est maintenue constante, et la qualité du film est rendue homogène. Le film (22) est chauffé au moyen d‘une courroie de métal (40) se déplaçant simultanément au dos du film. Les galets mobiles (33, 34) peuvent remonter de la position de déposition de film vers la position d’autonettoyage, et le film (22) peut être séparé de la plaque de rayonnement (37). L’autonettoyage peut être effectué lors de la déposition d'un film en refermant l’ouverture d’un masque (51) avec un volet (65) et en empêchant ainsi toute fuite de gaz de nettoyage.
(JA) フィルムの成膜領域に反応ガスを均一に供給して膜質の均質化を図ることができ、フィルム成膜途中で成膜部のセルフクリーニングをも実行可能な巻取式プラズマCVD装置を提供する。  フィルムの走行方向に関して成膜部(25)の上流側および下流側に配置した一対の可動ローラ(33,34)間でフィルム(22)を支持し、フィルム(22)を成膜位置においてほぼ直線的に走行させる。これによりシャワープレート(37)とフィルム(22)間の対向距離を一定に保持して膜質の均質化を図る。フィルム(22)は、その裏面側で同時走行する金属ベルト(40)により加熱される。可動ローラ(33,34)は成膜位置からセルフクリーニング位置へ上昇可能に構成し、フィルム(22)をシャワープレート(37)から遠ざけられるようにする。そして、マスク(51)の開口部をシャッタ(65)で塞ぎ、クリーニングガスの漏出を防いで成膜中のセルフクリーニングを実行可能とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)