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1. (WO2006121009) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/121009    International Application No.:    PCT/JP2006/309254
Publication Date: 16.11.2006 International Filing Date: 08.05.2006
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G02B 13/24 (2006.01), G02B 17/08 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
OMURA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OKADA, Takaya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OMURA, Yasuhiro; (JP).
OKADA, Takaya; (JP).
NAGASAKA, Hiroyuki; (JP)
Agent: YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Priority Data:
2005-139344 12.05.2005 JP
Title (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD
(FR) SYSTÈME OPTIQUE DE PROJECTION, DISPOSITIF D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ D’EXPOSITION
(JA) 投影光学系、露光装置、および露光方法
Abstract: front page image
(EN)A range wherein a liquid (immersion liquid) exists is reduced in an image space, for instance, in a catadioptric and off-axis field type immersion projection optical system. The projection optical system which projects a reduced image, which is on a first plane, on a second plane through the liquid is provided with a refracting optical element (Lp) arranged closest to the second plane. A projection plane (Lpb) of the refracting optical element has a substantially symmetrical shape with regard to two axis line directions (X direction and Y direction) orthogonally intersecting on the second plane, and substantially matches with a center axis line (40a) of a circle (40) which corresponds to a center axis line (Lpba) of the projection plane and an outer circumference of an incidence plane (Lpa) of the refracting optical element. The center axis line of the projection plane is decentered from an optical axis (AX) along the one axis line direction (Y direction) of the two axis line directions.
(FR)Dans la présente invention, l’espace où existe un liquide (liquide d'immersion) est réduite dans un espace d'image, par exemple dans un système optique de projection par immersion catadioptrique et à type de champ axial. Le système optique de projection qui projette une image réduite, présente sur un premier plan, sur un second plan à travers le liquide comporte un élément optique de réfraction (Lp) disposé le plus près possible du second plan. Un plan de projection (Lpb) de l’élément optique de réfraction présente une forme sensiblement symétrique par rapport aux deux direction de ligne d'axe (direction X et direction Y) à intersection orthogonale sur le second plan, et correspond sensiblement à une ligne d’axe centrale (40a) d’un cercle (40) correspondant à la ligne d’axe centrale (Lpba) du plan de projection et à la circonférence extérieure d'un plan d'incidence (Lpa) de l'élément optique de réfraction. La ligne d’axe centrale du plan de projection est décentrée par rapport à un axe optique (AX) le long de l’une des directions de ligne d'axe (direction Y) des deux directions de ligne d’axe.
(JA) たとえば反射屈折型で且つ軸外視野型の液浸投影光学系において、像空間において液体(浸液)が介在する範囲を小さく抑える。第1面の縮小像を液体を介して第2面に投影する投影光学系は、最も第2面側に配置された屈折光学素子(Lp)を備えている。屈折光学素子の射出面(Lpb)は第2面上において直交する2つの軸線方向(X方向およびY方向)に関してほぼ対称な形状を有し、射出面の中心軸線(Lpba)と屈折光学素子の入射面(Lpa)の外周に対応する円(40)の中心軸線(40a)とはほぼ一致し、射出面の中心軸線は2つの軸線方向のうちの一方の軸線方向(Y方向)に沿って光軸(AX)から偏心している。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)