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1. (WO2006120720) METHOD FOR FABRICATING DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/120720    International Application No.:    PCT/JP2005/008285
Publication Date: 16.11.2006 International Filing Date: 02.05.2005
IPC:
G02B 5/18 (2006.01)
Applicants: OKI ELECTRIC INDUSTRY CO., LTD. [JP/JP]; 7-12, Toranomon 1-chome, Minato-ku Tokyo 1058460 (JP) (For All Designated States Except US).
SEKIKAWA, Ryo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MAENO, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SEKIKAWA, Ryo; (JP).
MAENO, Yoshinori; (JP)
Agent: KAMEYA, Yoshiaki; HAZUKI INTERNATIONAL YOTSUYA Daiichi Tomizawa Building 1-3, Yotsuya 3-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600004 (JP)
Priority Data:
Title (EN) METHOD FOR FABRICATING DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN ÉLÉMENT OPTIQUE À DIFFRACTION
(JA) 回折光学素子の製造方法
Abstract: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a method for fabricating a high precision diffraction optical element capable of enhancing diffraction efficiency. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A diffraction optical element having a periodical stepwise profile is fabricated by repeating a series of processes for exposing and developing a substrate (1) coated with resist (2) through a mask to form a resist pattern and then etching the resist pattern. In the first process, a pattern having a width identical to that of the step is formed and then the width of the pattern is increased in the subsequent processes. When fabricating a seven-step diffraction optical element assuming the level difference of step is D, the second, fourth and sixth step portions are etched with depth D in the first process the ninth step portion is etched with depth 2D in the second process, the fifth, sixth and seventh step portions are etched with depth 2D in the third process, and the third, fourth, fifth, sixth and seventh step portions are etched with depth 2D in the fourth process.
(FR)L’invention concerne un procédé de fabrication d’un élément optique à diffraction grande précision capable d’améliorer l’efficacité de diffraction. On obtient un élément optique à diffraction ayant un profil graduel périodique en répétant une série de processus d’exposition et de développement d’un substrat (1) revêtu de résist (2) à travers un masque pour constituer un motif de résist et attaquer chimiquement le motif de résist. Dans le premier processus, un motif d’une largeur identique à celle de la phase est formé, puis la largeur du motif est augmentée dans les processus subséquents. Pour fabriquer un élément optique à diffraction à sept phases en prenant comme hypothèse que la différence de niveau de phase est la valeur D, la deuxième, la quatrième et la sixième portions de phase subissent une attaque chimique à la profondeur D dans le premier processus, la neuvième portion de phase subit une attaque chimique à la profondeur 2D dans le deuxième processus, la cinquième, la sixième et la septième portions de phase subissent une attaque chimique à la profondeur 2D dans le troisième processus, et la troisième, la quatrième, la cinquième, la sixième et la septième portions de phase subissent une attaque chimique à la profondeur 2D dans le quatrième processus.
(JA)【課題】 高精度に回折光学素子を製造して,回折効率の向上を図ることが可能な,回折光学素子の製造方法を提供すること。 【解決手段】 マスクを用いてレジスト2が塗布された基板1を露光,現像してレジストパターンを形成し,エッチングする一連のプロセスを繰り返して,周期的な階段形状を有する回折光学素子を製造する。第1プロセスで,階段の幅と同じ幅のパターンを形成し,以降のプロセスでは,パターン幅をより大きくしていく。7段階段形状の回折光学素子を製造する場合は,階段の段差Dとしたとき,第1プロセスで,2,4,6段目部分を深さDでエッチングし,第2プロセスで,9段目部分を深さ2Dでエッチングし,第3プロセスで5,6,7段目部分を深さ2Dでエッチングし,第4プロセスで3,4,5,6,7段目部分を深さ2Dでエッチングする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)