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1. (WO2006119468) RETINAL PROSTHESIS WITH SEPARATE CENTRAL ELECTRODE ARRAY AND PERIPHERAL ELECTRODE ARRAY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/119468    International Application No.:    PCT/US2006/017282
Publication Date: 09.11.2006 International Filing Date: 04.05.2006
IPC:
A61N 1/36 (2006.01), A61F 9/08 (2006.01), A61N 1/05 (2006.01)
Applicants: SECOND SIGHT MEDICAL PRODUCTS, INC. [US/US]; 12744 SAN FERNANDO ROAD, Building 3, Symar, CA 91342 (US) (For All Designated States Except US).
DOHENY EYE INSTITUTE [US/US]; 1450 San Pablo Street, Los Angeles, CA 90033 (US) (For All Designated States Except US).
GREENBERG, Robert, Jay [US/US]; (US) (For US Only).
HUMAYUN, Mark [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: GREENBERG, Robert, Jay; (US).
HUMAYUN, Mark; (US)
Agent: DUNBAR, Scott, B.; SECOND SIGHT MEDICAL PRODUCTS, INC., 12744 SAN FERNANDO ROAD, Building 3, Sylmar, CA 91342 (US)
Priority Data:
60/677,551 04.05.2005 US
Title (EN) RETINAL PROSTHESIS WITH SEPARATE CENTRAL ELECTRODE ARRAY AND PERIPHERAL ELECTRODE ARRAY
(FR) PROTHESE RETINIENNE FABRIQUEE AVEC UNE MATRICE D'ELECTRODES CENTRALE ET UNE MATRICE D'ELECTRODES PERIPHERIQUE DISTINCTES
Abstract: front page image
(EN)The artificial percept of light may be created by electrically stimulating the neurons of the retina. While a photolithographed array internal to the retina provides superior resolution, an array external to the retina provides easier implantation and improved manufacturability. Therefore it is advantageous to supply a high-resolution electrode array internal to the sclera, near the fovea and a lower-resolution electrode array external to the sclera near the periphery of the retina. The preferred method of manufacturing a high-resolution electrode array is through photolithography, which requires the array to be made flat. While it is possible to curve the array afterward, it is difficult and costly. I small high-resolution array can be implanted near the fovea. Due to its small size, curvature is less of an issue. A larger lower-resolution array can be molded in silicone or similar method and placed around the periphery, of the retina, where the retina is naturally lower resolution. Further, the lower-resolution array can be implanted external to the sclera reducing the number of electrical connectors passing through the sclera. Even if a separate lower-resolution array is implanted internal to the sclera, super-choroidal (between the choroid and sclera) or intra-scleral (between the layers of the sclera), it is easier to make a lower-resolution array in a curved shape.
(FR)Il est possible de créer la perception artificielle de la lumière en stimulant électriquement les neurones de la rétine. Alors qu'une matrice photolithographiée interne à la rétine favorise une résolution supérieure, une matrice externe à la rétine permet une implantation aisée et une manufacturabilité améliorée. C'est pourquoi il est avantageux d'utiliser une matrice d'électrodes de haute résolution interne à la sclère à proximité de la fovéa et une matrice d'électrodes de faible résolution externe à la sclère à proximité de la périphérie de la rétine. Le procédé de fabrication préféré d'une matrice d'électrodes de haute résolution est la photolithographie, procédé nécessitant l'utilisation d'une matrice plate. Bien qu'il soit possible de recourber la matrice ultérieurement, cette opération reste difficile et onéreuse. Le procédé selon l'invention permet d'implanter une matrice de haute résolution de petite dimension à proximité de la fovéa. Sa petite dimension minimise la question de la courbure. Le procédé selon l'invention permet de mouler une matrice de faible résolution de plus grande dimension dans du silicone ou procédé similaire et permet de la placer sur la périphérie de la rétine, là où la rétine possède naturellement un résolution plus faible. Le procédé permet également d'implanter la matrice de faible résolution à l'extérieur de la sclère, ce qui permet de réduire le nombre de connecteurs électriques traversant la sclère. Même si une matrice de faible résolution distincte est implantée à l'intérieur de la sclère, au-dessus de la choroïde (entre la choroïde et la sclère) ou en intrasclérale (entre les couches de la sclère), il est plus facile de fabriquer une matrice de faible résolution recourbée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)