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1. (WO2006117933) ANTISTATIC RESIN COMPOSITION AND KIT FOR PREPARATION OF ANTISTATIC RESIN VESSEL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/117933    International Application No.:    PCT/JP2006/305222
Publication Date: 09.11.2006 International Filing Date: 16.03.2006
Chapter 2 Demand Filed:    26.02.2007    
IPC:
C08L 33/20 (2006.01), B65D 85/86 (2006.01), C08L 51/04 (2006.01), C08L 77/00 (2006.01)
Applicants: KUREHA CORPORATION [JP/JP]; 3-3-2, Nihonbashi-Hamacho, Chuo-Ku, Tokyo 1038552 (JP) (For All Designated States Except US).
ARAI, Shiro; (For US Only)
Inventors: ARAI, Shiro;
Agent: ENDO, Yukio; TOKYO INTERNATIONAL PATENT FIRM 2nd Floor, MiyataBuilding 17-16, Nishi-Shimbashi 1-Chome Minato-Ku Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2005-127387 26.04.2005 JP
Title (EN) ANTISTATIC RESIN COMPOSITION AND KIT FOR PREPARATION OF ANTISTATIC RESIN VESSEL
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE ANTISTATIQUE ET KIT POUR LA PRÉPARATION D'UN RÉCIPIENT EN RÉSINE ANTISTATIQUE
(JA) 制電性樹脂組成物および制電性樹脂容器作製用キット
Abstract: front page image
(EN)This invention provides an antistatic resin composition comprising (a) 100 parts by weight of a polyacrylonitrile resin and, blended with the polyacrylonitrile resin, (b) 3 to 10 parts by weight of a graft copolymer prepared by graft polymerizing an ethylenically unsaturated monomer onto an alkylene oxide group-containing rubbery stem polymer, (c) 3 to 10 parts by weight of a hydrophilic polymer compatible with a polyacrylonitrile resin (a), and (d) 0.01 to 5 parts by weight of a surfactant. This composition is suitable for the formation of a vessel suitable for storing precision products, which are produced in a very small amount but are required to have high antistatic properties, such as photomasks, or semi-finished products thereof. There is also provided a kit for the preparation of an antistatic resin vessel comprising the antistatic resin composition and acetonitrile as a solvent.
(FR)Cette invention concerne une composition de résine antistatique comprenant (a) 100 parties en poids d'une résine de polyacrylonitrile et, mélangés à la résine de polyacrylonitrile, (b) 3 à 10 parties en poids d'un copolymère greffé préparé en polymérisant par greffage un monomère à insaturation éthylénique sur un polymère de base caoutchouteux contenant des groupes de type oxyde d'alkylène, (c) 3 à 10 parties en poids d'un polymère hydrophile compatible avec une résine de polyacrylonitrile (a) et (d) 0,01 à 5 parties en poids d'un tensioactif. Cette composition convient pour la formation d'un récipient convenant pour stocker des produits de précision, lesquels sont produits en très petite quantité mais doivent avoir des propriétés antistatiques élevées, tels que des masques photographiques, ou des produits semi-finis de ceux-ci. L'invention concerne également un kit pour la préparation d'un récipient en résine antistatique comprenant la composition de résine antistatique et de l'acétonitrile en tant que solvant.
(JA) (a)ポリアクリロニトリル系樹脂100重量部に対して、(b)アルキレンオキサイド基を有するゴム状幹重合体にエチレン系不飽和単量体をグラフト重合したグラフト共重合体3~10重量部、(c)ポリアクリロニトリル系樹脂(a)と相溶性を有する親水性ポリマー3~10重量部および(d)界面活性剤0.01~5重量部を配合してなる制電性樹脂組成物。この組成物は、フォトマスク等の極めて少量生産であるが高い帯電防止特性を要求する精密製品あるいはその半製品を収容するのに適した容器を形成するのに適する。また、該制電性樹脂組成物と溶剤アセトニトリルからなる制電性樹脂容器作製用キットも提供される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)