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1. (WO2006117887) CORROSION-RESISTANT MEMBER AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/117887    International Application No.:    PCT/JP2005/018595
Publication Date: 09.11.2006 International Filing Date: 30.09.2005
IPC:
C23C 4/10 (2006.01), C23C 4/12 (2006.01)
Applicants: NIHON CERATEC CO., LTD. [JP/JP]; 24-1, Ake-Dori 3-chome Izumi-ku, Sendai City Miyagi 981-3292 (JP) (For All Designated States Except US).
SAKAMAKI, Makoto [JP/JP]; (JP) (For US Only).
UMEKI, Toshiya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HAYASHI, Mutsuo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SATO, Kenichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MINAMI, Nobuyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SAKAMAKI, Makoto; (JP).
UMEKI, Toshiya; (JP).
HAYASHI, Mutsuo; (JP).
SATO, Kenichi; (JP).
MINAMI, Nobuyuki; (JP)
Priority Data:
2005-156328 26.04.2005 JP
Title (EN) CORROSION-RESISTANT MEMBER AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) ELEMENT RESISTANT A LA CORROSION ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
(JA) 耐食性部材およびその製造方法
Abstract: front page image
(EN)A corrosion-resistant member for use in a corrosive environment, which comprises a base (53) and a ceramic film (52) deposited by thermal spraying with which part or all of the surface of the base (53) is coated. The spray deposit film (52) has a thickness of 50-500 µm. The spray deposit film (52), when examined after having being separated from the base (53), has an overall porosity exceeding 10%. When the spray deposit film (52) is polished on the both sides, i.e., the front side and the side separated from the base (53), until the surface roughness on each side reaches 0.5 µm, the spray deposit film after the polishing has a porosity of 7% or lower.
(FR)L’invention concerne un élément résistant à la corrosion destiné à une utilisation dans un environnement corrosif, lequel comprend une base (53) et un film en céramique (52) déposé par pulvérisation thermique dont une partie ou la totalité de la surface de la base (53) est enduite. Le film déposé par pulvérisation (52) a une épaisseur de 50 à 500 µm. Le film déposé par pulvérisation (52), lorsqu’il est examiné après avoir été séparé de la base (53), a une porosité globale dépassant 10 %. Lorsque le film déposé par pulvérisation (52) est poli des deux côtés, à savoir le côté avant et le côté séparé de la base (53), jusqu'à ce que la rugosité de la surface de chaque côté atteigne 0,5 µm, le film déposé par pulvérisation après le polissage a une porosité inférieure ou égale à 7 %.
(JA) 腐食性環境下で用いられる耐食性部材は、基材53と、該基材53表面の一部もしくは全部を被覆するセラミックスの溶射膜52とを備えている。この溶射膜52は、膜厚が50~500μmであり、基材53から剥離した状態で、溶射膜52全体の気孔率が10%を超えるとともに、溶射膜52の表面と基材53側の剥離面との両方から、それぞれ表面粗さが0.5μmに達するまで研磨したときの研磨後の溶射膜内部の気孔率が7%以下である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)