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1. (WO2006117625) EQUIPMENT AND METHOD FOR ION IMPLANTATION PROCESSING OF MEDICAL DEVICES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/117625    International Application No.:    PCT/IB2006/001060
Publication Date: 09.11.2006 International Filing Date: 28.04.2006
IPC:
C23C 14/48 (2006.01), C23C 14/50 (2006.01)
Applicants: SAMKOV, Alexander, V. [RU/RU]; (RU)
Inventors: SAMKOV, Alexander, V.; (RU)
Priority Data:
60/676,148 29.04.2005 US
Title (EN) EQUIPMENT AND METHOD FOR ION IMPLANTATION PROCESSING OF MEDICAL DEVICES
(FR) EQUIPEMENT ET PROCEDE DE TRAITEMENT PAR IMPLANTATION D'IONS DE DISPOSITIFS MEDICAUX
Abstract: front page image
(EN)A chamber for processing multiple targets includes a plurality of rotatable holders, mounted on a rotatable disk, wherein only one holder is in a diametrical direction, specifically a direction that is the same or vertically parallel to the ion beam pathway. An ion implantation process includes propagating an ion beam along an ion beam pathway, rotating a disk having a plurality of holders to bring a target supported by a holder in the ion beam pathway; and rotating the holder to expose different surfaces of the target to the ion beam. In the process, not more than one holder is on a diametrical direction. A method for moving a target during an ion implantation also is disclosed. The invention is particularly useful in doping titanium- based medical devices with carbon ions.
(FR)Chambre destinée au traitement de cibles multiples, qui comporte une pluralité d'éléments de retenue rotatifs, montés sur un disque rotatif, un seul élément de retenue se trouvant dans une direction diamétrale, spécifiquement dans une direction qui est la même que celle du faisceau ionique ou verticalement parallèle à ce dernier. Un procédé d'implantation d'ions consiste à propager un faisceau ionique le long d'une trajectoire de faisceau ionique, à faire tourner un disque pourvu d'une pluralité d'éléments de retenue pour amener une cible portée par un élément de retenue dans la trajectoire du faisceau ionique et à faire tourner l'élément de retenue pour exposer différentes surfaces de la cible au faisceau ionique. Dans ce procédé, un seul élément de retenue se trouve dans la direction diamétrale. Un procédé permettant de déplacer une cible pendant l'implantation d'ions est également décrit. La présente invention est particulièrement utile pour doper des dispositifs médicaux à base de titane avec des ions de carbone.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)