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1. (WO2006116166) OPTIMIZING MALDI MASS SPECTROMETER OPERATION BY SAMPLE PLATE IMAGE ANALYSIS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/116166    International Application No.:    PCT/US2006/015209
Publication Date: 02.11.2006 International Filing Date: 21.04.2006
IPC:
H01J 49/16 (2006.01), G06T 5/40 (2006.01)
Applicants: THERMO FINNIGAN LLC [US/US]; 355 River Oaks Parkway, San Jose, California 95134 (US) (For All Designated States Except US).
BUI, Huy, A. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BUI, Huy, A.; (US)
Agent: KATZ, Charles B.; THERMO ELECTRON CORPORATION, 355 River Oaks Parkway, San Jose, California 95134 (US)
Priority Data:
11/116,830 28.04.2005 US
Title (EN) OPTIMIZING MALDI MASS SPECTROMETER OPERATION BY SAMPLE PLATE IMAGE ANALYSIS
(FR) OPTIMISATION DU FONCTIONNEMENT D'UN SPECTROMETRE DE MASSE MALDI PAR ANALYSE D'IMAGE DE PLAQUE D'ECHANTILLONS
Abstract: front page image
(EN)A method and apparatus are described for performing image analysis of a sample target area on a MALDI sample plate to select laser impingement locations for optimal mass spectra acquisition. The target area image is captured and analyzed to determine the incidence distribution of picture element values (representative of luminance and/or chrominance information). A dynamic threshold value may be determined by constructing a virtual histogram and then identifying a value at which a local minimum occurs between modes of a bimodal distribution. The threshold value is applied to the picture elements to locate regions within the target area that possess desired visual characteristics, such as a high luminance indicative of a crystalline structure. Mass spectra acquisition may be optimized by directing the laser beam to impinge at only those regions that possess the desired visual characteristic. The mass spectrometer performance may be further improved by coupling the image analysis process to an auto-spectrum filtering technique, whereby the laser beam is selectively held at or moved from a region of the sample spot based on whether the resultant mass spectrum meets predetermined performance criteria.
(FR)L'invention concerne un procédé et un appareil pour l'analyse d'image d'une surface cible d'échantillon sur une plaque d'échantillons MALDI afin que soient sélectionnés des emplacements d'impact laser pour l'acquisition optimale de spectres de masse. L'image de surface cible est capturée et analysée afin que soit déterminée la distribution d'incidence de valeurs d'éléments d'image (représentant des informations de luminance et/ou de chrominance). Une valeur seuil dynamique peut être déterminée par construction d'un histogramme virtuel puis par identification d'une valeur à laquelle un minimum local se produit entre des modes d'une distribution bimodale. La valeur seuil est appliquée aux éléments d'image afin que soient localisées des zones à l'intérieur de la surface cible qui présentent des caractéristiques visuelles désirées, par exemple une luminance élevée indiquant une structure cristalline. L'acquisition de spectres de masse peut être optimisée par orientation du faisceau laser de façon que ce dernier n'entre en contact qu'avec les régions qui présentent la caractéristique désirée. La performance du spectromètre de masse peut en outre être améliorée par association du procédé d'analyse d'image à une technique de filtrage autospectre, le faisceau laser étant sélectivement maintenu sur une zone du point de l'échantillon ou déplacé de celle-ci si le spectre de masse obtenu répond aux critères de performance prédéterminés.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)