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1. (WO2006091948) LASER PRODUCED PLASMA EUV LIGHT SOURCE WITH PRE-PULSE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/091948    International Application No.:    PCT/US2006/006947
Publication Date: 31.08.2006 International Filing Date: 24.02.2006
IPC:
G01J 1/00 (2006.01), H01J 35/08 (2006.01)
Applicants: CYMER, INC. [US/US]; (A NEVADA CORPORATION), 17075 Thornmint Court, San Diego, California 92127-2413 (US) (For All Designated States Except US).
BYKANOV, Alexander N. [RU/US]; (US) (For US Only).
KHODYKIN, Oleh [UA/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BYKANOV, Alexander N.; (US).
KHODYKIN, Oleh; (US)
Agent: HILLMAN, Matthew K.; CYMER, INC., LEGAL DEPT., MS/4-2C, 17075 Thornmint Court, San Diego, California 92127-2413 (US)
Priority Data:
11/067,124 25.02.2005 US
11/174,443 29.06.2005 US
11/358,988 21.02.2006 US
Title (EN) LASER PRODUCED PLASMA EUV LIGHT SOURCE WITH PRE-PULSE
(FR) SOURCE DE LUMIERE ULTRAVIOLETTE EXTREME DE PLASMA PRODUITE PAR LASER AVEC UNE PRE-IMPULSION
Abstract: front page image
(EN)A method for generating EUV light is disclosed which may include the acts / steps of providing a source material; generating a plurality of source material droplets; simultaneously irradiating a plurality of source material droplets with a first light pulse to create irradiated source material; and thereafter exposing the irradiated source material to a second light pulse to generate EUV light, e.g. by generating a plasma of the source material. In another aspect, an EUV light source may include a droplet generator delivering a plurality of source material droplets to a target volume; a source of a first light pulse for simultaneously irradiating a plurality of droplets in the target volume to produce an irradiated source material; and a source of a second light pulse for exposing the irradiated source material to generate EUV light. The droplet generator may comprise a non-modulating droplet generator and may comprise a multi-orifice nozzle.
(FR)L'invention concerne un procédé de génération de lumière ultraviolette extrême qui peut consister à fournir une matière de source, à engendrer une pluralité de gouttelettes de matière de source, à faire rayonner simultanément ladite pluralité de gouttelettes avec une première impulsion de lumière pour engendrer une matière de source traitée par rayonnements et, puis, à exposer ladite matière de source traitée par rayonnements à une seconde impulsion de lumière afin de générer la lumière ultraviolette extrême, par ex., par génération d'un plasma de la matière de source. Dans un autre aspect, une source de lumière ultraviolette extrême peut comporter un générateur de gouttelettes servant à distribuer une pluralité de gouttelettes de matière de source à un volume cible, une source d'une première impulsion de lumière destinée à faire rayonner simultanément une pluralité de gouttelettes dans le volume cible en vue de produire une matière de source traitée par rayonnements, et une source d'une seconde impulsion de lumière de manière à exposer la matière de source traitée par rayonnements pour engendrer une lumière ultraviolette extrême. Ce générateur de gouttelettes peut comporter un générateur de gouttelettes exempt de modulation et une buse à plusieurs orifices.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)