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1. (WO2006091943) CYLINDRICAL SPUTTERING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/091943    International Application No.:    PCT/US2006/006917
Publication Date: 31.08.2006 International Filing Date: 28.02.2006
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
Applicants: NANOSET, LLC [US/US]; 349 West Commercial Street Suite 2490, East Rochester, New York 14445 (US) (For All Designated States Except US).
WANG, Xingwu [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: WANG, Xingwu; (US)
Agent: CURATOLO, Joseph, G.; 24500 CENTER RIDGE ROAD, Suite 280, Cleveland, Ohio 44145 (US)
Priority Data:
60/657,055 28.02.2005 US
Title (EN) CYLINDRICAL SPUTTERING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE PULVERISATION CATHODIQUE DE FORME CYLINDRIQUE
Abstract: front page image
(EN)A cylindrical sputtering target (40) including a cylinder of a first material (42) wherein the inner wall (48) of the cylinder has embedded within it a pattern of small pieces (44) of one or more different materials (46, 52, 54), whereby such target produces a spatially and compositionally uniform coating on a substrate (30) in a cylindrical sputtering process. The molar ratio of the multiple materials in the coating composition is influenced by the size, shape, and geometrical pattern of the material pieces embedded in the inner cylinder wall.
(FR)La présente invention a trait à une cible de pulvérisation cathodique de forme cylindrique (40) comportant un cylindre d'un premier matériau (42) dans lequel la paroi intérieure (48) du cylindre est incrustée d'un motif formé de petites pièces (44) d'un ou de plusieurs matériaux différents (46, 52, 54), ladite cible produisant un revêtement uniforme dans l'espace et en composition sur un substrat (30) dans un procédé de pulvérisation cathodique cylindrique. Le rapport molaire de la pluralité de matériaux dans la composition de revêtement est influencé par la taille, la forme et la configuration géométrique des pièces de matériau incorporées dans la paroi intérieure du cylindre.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)