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1. (WO2006091448) CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTOR HAVING MULTIPLE INLETS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/091448    International Application No.:    PCT/US2006/005330
Publication Date: 31.08.2006 International Filing Date: 15.02.2006
IPC:
C23C 16/455 (2006.01), B05C 3/00 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Applicants: BRIDGELUX, INC. [US/US]; 1225 Bordeaux Drive, Sunnyvale, California 94089 (US) (For All Designated States Except US).
LIU, Heng [TZ/US]; (US) (For US Only)
Inventors: LIU, Heng; (US)
Agent: CARTE, Norman E.; MacPherson Kwok Chen & Heid LLP, 2033 Gateway Place, Suite 400, San Jose, CA 95110 (US)
Priority Data:
11/064,984 23.02.2005 US
Title (EN) CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTOR HAVING MULTIPLE INLETS
(FR) REACTEUR DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR A ENTREES MULTIPLES
Abstract: front page image
(EN)A chemical vapor deposition reactor has a wafer carrier which cooperates with a chamber of the reactor to facilitate laminar flow of reaction gas within the chamber and a plurality of injectors configured in flow controllable zones so as to mitigate depletion. Each zone can optionally have a dedicated flow controller. Thus, flow through each zone can be individually controllable.
(FR)Un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur comprend un support de plaquettes qui coopère avec une chambre du réacteur pour faciliter l'écoulement laminaire du gaz de réaction à l'intérieur de la chambre et une pluralité d'injecteurs logés dans des zones où l'écoulement peut être régulé pour réduire l'appauvrissement. Chaque zone peut éventuellement disposer d'un régulateur de flux spécifique. L'écoulement dans chaque zone peut alors être régulé de manière individuelle.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)