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1. (WO2006090807) EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/090807    International Application No.:    PCT/JP2006/303333
Publication Date: 31.08.2006 International Filing Date: 23.02.2006
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
ICHIHARA, Yutaka [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKAMURA, Ayako [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHIRAISHI, Naomasa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TANIMOTO, Akikazu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KUDO, Yuji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: ICHIHARA, Yutaka; (JP).
NAKAMURA, Ayako; (JP).
SHIRAISHI, Naomasa; (JP).
TANIMOTO, Akikazu; (JP).
KUDO, Yuji; (JP)
Agent: OMORI, Satoshi; Omori Patent Office, 2075-2-501, Noborito, Tama-ku Kawasaki-shi Kanagawa 2140014 (JP)
Priority Data:
2005-052158 25.02.2005 JP
Title (EN) EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCEDE ET APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN COMPOSANT ELECTRONIQUE
(JA) 露光方法および装置、ならびに電子デバイス製造方法
Abstract: front page image
(EN)An exposure method suitable for forming a fine pattern constituting an electronic device, has high resolution and high cost performance. Two diffraction gratings (P1, P2) are arranged in a light path in series by permitting a wafer (W) or the like constituting the electronic device and the two diffraction gratings (P1, P2) to be at prescribed intervals. A contrast pattern of interference fringes generated by the diffraction gratings (P1, P2) is exposed on the wafer (W) or the like. The exposure is performed while changing a positional relationship between the wafer (W) or the like and the diffraction gratings (P1, P2) as needed.
(FR)L'invention concerne un procédé d'exposition convenant à la formation d'un motif fin constituant un composant électronique, qui présente une résolution élevée ainsi que des performances élevées en termes de coût. Deux réseaux de diffraction (P1, P2) sont disposés dans un trajet lumineux en série, en permettant à une tranche (W) ou assimilé de constituer le composant électronique, et les deux réseaux de diffraction (P1, P2) de se trouver à des intervalles prescrits. Un motif de contraste de franges d'interférence générées par les réseaux de diffraction (P1, P2) est exposé sur la tranche (W) ou assimilé. L'exposition est effectuée tout en changeant à la demande la relation de position entre la tranche (W) ou autre et les réseaux de diffraction (P1, P2).
(JA) 電子デバイスを構成する微細パターンの形成に使用して好適な露光方法であって、高解像度かつ経済的な露光方法を提供することを目的とする。2つの回折格子(P1,P2)を光路中に直列に、かつ電子デバイスを構成するウエハ等(W)とその2つの回折格子(P1,P2)とが所定の間隔を持つように配置し、その回折格子(P1,P2)により生じた干渉縞の明暗パターンを、そのウエハ等(W)に露光する。必要に応じて、そのウエハ等(W)とその回折格子(P1,P2)との位置関係を変更しつつ上記露光を行なう。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)