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1. (WO2006090580) METHOD AND MECHANISM FOR POSITIONING AND HOLDING SHEET BODY AND DRAWING DEVICE USING THE METHOD AND THE MECHANISM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/090580    International Application No.:    PCT/JP2006/302088
Publication Date: 31.08.2006 International Filing Date: 07.02.2006
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (For All Designated States Except US).
TERADA, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOIZUMI, Takashi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TERADA, Kazuhiro; (JP).
KOIZUMI, Takashi; (JP)
Agent: CHIBA, Yoshihiro; Shinjuku Maynds Tower 16F 1-1, Yoyogi 2-chome, Shibuya-ku Tokyo 1510053 (JP)
Priority Data:
2005-049646 24.02.2005 JP
Title (EN) METHOD AND MECHANISM FOR POSITIONING AND HOLDING SHEET BODY AND DRAWING DEVICE USING THE METHOD AND THE MECHANISM
(FR) PROCEDE ET MECANISME POUR POSITIONNER ET MAINTENIR UNE FEUILLE ET DISPOSITIF DE DESSIN UTILISANT LE PROCEDE ET LE MECANISME
(JA) シート体位置決め保持方法及び機構並びにそれを用いた描画装置
Abstract: front page image
(EN)A method and a mechanism for positioning and holding a sheet body capable of easily and rapidly attaching and detaching the sheet body to and from a stage without damaging the sheet body and a drawing device using the method and the mechanism. When a substrate (F) is fixedly positioned on the exposure stage (18), the substrate (F) is placed on a support plate (60) while a prescribed amount of air is discharged from discharge holes (74). Next, the air is sucked from suction holes (72) to suck the substrate (F). When the substrate (F) is separated from the exposure stage (18), the prescribed amount of air is discharged from the discharge holes (74) to release a sucked state.
(FR)L'invention concerne un procédé et un mécanisme pour positionner et maintenir une feuille, capable de fixer facilement et rapidement la feuille sur un support et de l'en détacher sans endommager la feuille, et un dispositif de dessin utilisant le procédé et le mécanisme. Lorsqu'un substrat (F) est positionné de manière fixe sur le support d'exposition (18), le substrat (F) est placé sur une plaque de soutien (60) tandis qu'une quantité prescrite d'air est émise par des trous de soufflage (74). Ensuite, l'air est aspiré par des trous d'aspiration (72) pour plaquer le substrat (F). Lorsque le substrat (F) est séparé du support d'exposition (18), la quantité prescrite d'air est émise par les trous de soufflage (74) pour mettre fin au plaquage de la feuille.
(JA) シート体を損傷することなく、ステージに対するシート体の着脱処理を容易且つ迅速に行う。露光ステージ18に基板Fを位置決め固定する場合、排気孔74より所定量の空気を排出させた状態で基板Fを支持プレート60上に載置し、次いで、吸気孔72より空気を吸引させて基板Fを吸着する。また、露光ステージ18から基板Fを剥離する場合、排気孔74より所定量の空気を排出させて吸着状態を解除する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)